特許
J-GLOBAL ID:200903040081552182

薄膜磁気ヘッド及び薄膜磁気ヘッドの製造方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 志賀 正武 (外8名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平11-080551
公開番号(公開出願番号):特開2000-276705
出願日: 1999年03月24日
公開日(公表日): 2000年10月06日
要約:
【要約】【課題】 記録トラック幅が1μm以下である薄膜磁気ヘッドを提供し、また、記録トラック幅が1μm以下である薄膜磁気ヘッドを製造する方法を提供する。【解決手段】 上部コア層47及び下部コア層27が後部領域Yから磁極端領域Xに向けて延在して媒体対向面152に露出し、磁極端領域Xにて上部コア層47と下部コア層27の間にギャップ層45が設けられてなる薄膜磁気ヘッドであり、下部コア層27に絶縁層42が積層され、絶縁層42の磁極端領域Xに、媒体対向面152から後部領域Yに向けて延在する溝43が設けられ、溝43に、下部磁極層44とギャップ層45と上部磁極層46とが積層されると共に、下部磁極層44が下部コア層27に接合され、上部磁極層46が上部コア層47に接合されてなることを特徴とする薄膜磁気ヘッド41及びこの薄膜磁気ヘッド41の製造方法を採用する。
請求項(抜粋):
上部コア層及び下部コア層が後部領域から磁極端領域に向けて延在してそれらの端面が媒体対向面に露出し、前記後部領域にて前記上部コア層と前記下部コア層が磁気的に接続され、前記磁極端領域にて前記上部コア層と前記下部コア層の間にギャップ層が設けられてなる薄膜磁気ヘッドであり、前記下部コア層に絶縁層が積層され、該絶縁層の前記磁極端領域に、前記媒体対向面から前記後部領域に向けて延在する溝が設けられ、前記溝は、前記下部コア層側と前記上部コア層側と前記媒体対向面側に各々開口する溝本体部と、前記上部コア層側の溝本体部開口に形成された傾斜部とからなり、前記溝に、下部磁極層と前記ギャップ層と上部磁極層とが積層されると共に、前記下部磁極層が前記下部コア層に接合され、前記上部磁極層が前記上部コア層に接合されて、前記上部磁極層により上部磁極端が構成され、前記下部磁極層により下部磁極端が構成されてなることを特徴とする薄膜磁気ヘッド。
IPC (2件):
G11B 5/31 ,  G11B 5/39
FI (5件):
G11B 5/31 D ,  G11B 5/31 C ,  G11B 5/31 E ,  G11B 5/31 K ,  G11B 5/39
Fターム (12件):
5D033BA07 ,  5D033BA13 ,  5D033BA22 ,  5D033DA04 ,  5D033DA08 ,  5D033DA31 ,  5D034AA02 ,  5D034BA03 ,  5D034BA18 ,  5D034BB02 ,  5D034CA06 ,  5D034DA07
引用特許:
審査官引用 (3件)

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