画素クロック生成装置、レーザ走査装置、及び画像形成装置

発明者： , , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：伊東忠彦
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-108158
公開番号（公開出願番号）：特開2003-300341
出願日： 2002年04月10日
公開日（公表日）： 2003年10月21日
要約：

【要約】【課題】簡素な構成で高精度に画素クロックの位相制御を可能とすることで、高精度に走査幅の揺らぎを補正できる画素クロック生成装置、レーザ走査装置、及び画像形成装置を提供することを目的とする。【解決手段】フォトディテクタ108,109間を走査する間のクロック数をカウントし、このカウント値と目標値とを比較して比較結果を得る。また、この比較結果に基づいて、走査幅を決定する画素クロック(PCLK)の状態(H,L)を遷移させるタイミング(以下、遷移タイミングという)を決定する。更に、高周波クロックを生成する構成を設け、生成された高周波クロックに同期させつつ前記遷移タイミングに基づいて画素クロック(PCLK)を生成する。レーザ駆動装置114は生成された画素クロック及び入力された画像データに基づいて、半導体レーザ101を駆動する。

請求項（抜粋）：

所定長さを走査するのに要した走査時間を計測し、計測値を出力する計測手段と、高周波クロックを生成する高周波クロック生成手段と、前記計測値と予め設定された目標値との比較結果と前記高周波クロックとに基づいて位相制御された画素クロックを生成する画素クロック生成手段と、を有することを特徴とする画素クロック生成装置。

IPC (5件)：

B41J 2/44 , G02B 26/10 , G03G 15/04 , H04N 1/036 , H04N 1/113

FI (5件)：

G02B 26/10 A , G03G 15/04 , H04N 1/036 Z , B41J 3/00 M , H04N 1/04 104 A

Fターム (30件)：

2C362AA10 , 2C362BA04 , 2C362BA89 , 2C362BB29 , 2C362CB78 , 2H045AA01 , 2H045BA02 , 2H045CA88 , 2H045CA97 , 2H076AB05 , 2H076AB06 , 2H076AB12 , 2H076AB16 , 5C051AA02 , 5C051CA07 , 5C051DB08 , 5C051DB22 , 5C051DB24 , 5C051DB30 , 5C051DE02 , 5C072AA03 , 5C072DA02 , 5C072DA04 , 5C072HA02 , 5C072HA06 , 5C072HA09 , 5C072HA13 , 5C072HB11 , 5C072HB13 , 5C072XA05

引用特許：

審査官引用 (6件)

光走査装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平5-251357 出願人：東京電気株式会社
画像形成装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平4-127390 出願人：富士ゼロックス株式会社
特開平2-131212

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