特許
J-GLOBAL ID:200903040118930816
添加剤含有触媒の再生・若返りを行なう方法
発明者:
,
,
,
,
出願人/特許権者:
,
代理人 (1件):
松井 光夫
公報種別:公表公報
出願番号(国際出願番号):特願2001-507576
公開番号(公開出願番号):特表2003-503194
出願日: 2000年06月29日
公開日(公表日): 2003年01月28日
要約:
【要約】本発明は、500°Cの上限温度で触媒を酸素含有ガスと接触させることにより触媒を再生し、次いで触媒を有機添加剤と接触させるることにより触媒の若返りを行ない、必要ならば次いで添加剤の少なくとも50%が触媒中に保持されるような温度で乾燥する工程を含む、使用された、添加剤に基づく触媒の再生・若返りを行なう方法に関する。好ましくは、再生工程中の上限触媒温度が300〜50°C、より好ましくは320〜475°C、さらにより好ましくは350〜425°Cである。本発明に係る方法は、使用された、添加剤に基づく水素処理触媒の活性をその初期のレベルに回復し、あるいはそのレベルより上に改善すらすることを可能にする。
請求項(抜粋):
500°Cの上限温度で触媒を酸素含有ガスと接触させることにより触媒を再生し、次いで触媒を有機添加剤と接触させるることにより触媒の若返りを行ない、必要ならば次いで添加剤の少なくとも50%が触媒中に保持されるような温度で乾燥する工程を含む、使用された、添加剤に基づく触媒の再生・若返りを行なう方法。
IPC (6件):
B01J 38/00
, B01J 27/199
, B01J 27/28
, B01J 38/12
, B01J 38/52
, C10G 45/04
FI (6件):
B01J 38/00 Z
, B01J 27/199 M
, B01J 27/28 M
, B01J 38/12 C
, B01J 38/52
, C10G 45/04 B
Fターム (12件):
4G069AA03
, 4G069BA01B
, 4G069BC59B
, 4G069BC67B
, 4G069BD07B
, 4G069CC02
, 4G069FA02
, 4G069FB13
, 4G069FC03
, 4G069GA06
, 4H029CA00
, 4H029DA00
引用特許:
前のページに戻る