処理システム

発明者： , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：須山佐一
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-137263
公開番号（公開出願番号）：特開平9-320914
出願日： 1996年05月30日
公開日（公表日）： 1997年12月12日
要約：

【要約】【課題】システム内の清浄空気量を増大させずにシステム内へのパーティクルの侵入を防止することができる処理システムの提供。【解決手段】カセットステーション10において、カセット載置台20の上方空間とウエハ搬送アーム22の移動空間とは仕切り板11によって互いに仕切られており、ダウンフローの空気は両空間で別個に流れるようになっている。仕切り板11には複数個の開口部11aが設けられている。ウエハ搬送体22はこの開口部11aを介してウエハカセットCRに対して半導体ウエハWを搬入・搬出する。

請求項（抜粋）：

被処理基板を搬送・処理する複数の搬送・処理部と、前記各搬送・処理部ごとに設けられ、清浄空気を各搬送・処理部内に送り込むエアー供給手段と、少なくとも1つの前記搬送・処理部に設けられ、前記エアー供給手段によって送り込まれた清浄空気を搬送・処理部内で仕切ると共に、仕切られた各空間の間で前記被処理基板を移送するための開口部が設けられた仕切り板とを具備することを特徴とする処理システム。

IPC (4件)：

H01L 21/02 , G03F 7/30 501 , H01L 21/027 , H01L 21/68

FI (7件)：

H01L 21/02 D , G03F 7/30 501 , H01L 21/68 A , H01L 21/30 502 J , H01L 21/30 564 C , H01L 21/30 567 , H01L 21/30 569 D

引用特許：

出願人引用 (7件)

特開平1-241840
クリーンルーム
公報種別：公開公報出願番号：特願平3-195934 出願人：日立プラント建設株式会社
紫外線硬化照射装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平4-075946 出願人：岩崎電気株式会社

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審査官引用 (3件)

特開平1-241840
クリーンルーム
公報種別：公開公報出願番号：特願平3-195934 出願人：日立プラント建設株式会社
紫外線硬化照射装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平4-075946 出願人：岩崎電気株式会社

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