化学増幅型ポジ型レジスト組成物

発明者： , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：久保山隆 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-352852
公開番号（公開出願番号）：特開2001-166483
出願日： 1999年12月13日
公開日（公表日）： 2001年06月22日
要約：

【要約】【課題】 (メタ)アクリル酸エステルの重合単位及びヒドロキシスチレンの重合単位を有する樹脂を成分とし、解像度に優れる化学増幅型ポジ型レジスト組成物を提供する。【解決手段】下式(I)(式中、Qは水素又はメチルを表し、R1 及びR2 は互いに独立に炭素数1〜4のアルキルを表し、Rは、水酸基、炭素数1〜4のアルキル及び炭素数1〜4のヒドロキシアルキルから選ばれる基で置換されていてもよいフェニル又は、水酸基、オキソ、炭素数1〜4のアルキル及び炭素数1〜4のヒドロキシアルキルから選ばれる基で置換されていてもよいシクロヘキシルを表す)で示される(メタ)アクリル酸エステルの重合単位及びヒドロキシスチレンの重合単位を有する樹脂、並びに酸発生剤を含有する化学増幅型ポジ型レジスト組成物。

請求項（抜粋）：

下式(I)(式中、Qは水素又はメチルを表し、R1 及びR2 は互いに独立に炭素数1〜4のアルキルを表し、Rは、水酸基、炭素数1〜4のアルキル及び炭素数1〜4のヒドロキシアルキルから選ばれる基で置換されていてもよいフェニル又は、水酸基、オキソ、炭素数1〜4のアルキル及び炭素数1〜4のヒドロキシアルキルから選ばれる基で置換されていてもよいシクロヘキシルを表す)で示される(メタ)アクリル酸エステルの重合単位及びヒドロキシスチレンの重合単位を有する樹脂、並びに酸発生剤を含有することを特徴とする化学増幅型ポジ型レジスト組成物。

IPC (3件)：

G03F 7/039 601 , C08F220/12 , G03F 7/027 502

FI (3件)：

G03F 7/039 601 , C08F220/12 , G03F 7/027 502

Fターム (35件)：

2H025AA02 , 2H025AB16 , 2H025AC04 , 2H025AC05 , 2H025AC06 , 2H025AD03 , 2H025BE00 , 2H025BE07 , 2H025BE10 , 2H025BF02 , 2H025BF15 , 2H025BG00 , 2H025CB43 , 2H025CC20 , 2H025FA17 , 4J100AB02R , 4J100AB07Q , 4J100AJ02R , 4J100AK31R , 4J100AK32R , 4J100AL02R , 4J100AL08P , 4J100AM02R , 4J100AR03R , 4J100BA02P , 4J100BA03P , 4J100BA03Q , 4J100BA11P , 4J100BC04P , 4J100BC43P , 4J100CA04 , 4J100CA05 , 4J100DA01 , 4J100DA04 , 4J100JA38

引用特許：

審査官引用 (6件)

ポジ型感光性組成物
公報種別：公開公報出願番号：特願平10-079458 出願人：富士写真フイルム株式会社
ポリマー組成物及びこれを含んで成るレジスト材料
公報種別：公開公報出願番号：特願平8-354985 出願人：和光純薬工業株式会社
化学増幅型ポジ型ホトレジスト
公報種別：公開公報出願番号：特願平10-113586 出願人：東京応化工業株式会社

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