特許

J-GLOBAL ID：200903040263808050

投影露光装置

発明者： 谷口 哲夫
出願人/特許権者： 株式会社ニコン
代理人 (1件)： 立石 篤司 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-110377
公開番号（公開出願番号）：特開平10-289864
出願日： 1997年04月11日
公開日（公表日）： 1998年10月27日
要約：

【要約】【課題】 面倒な結像特性の照射変動計算を不要とし、しかも良好に結像特性を補正する。【解決手段】 主制御装置26により、投影光学系PLの結像特性の変化の内、変動要因に比例して変化する成分を補正すべく、環境センサ90の測定結果に基づいて結像特性調整手段(44a〜44c、45a〜45c、48、49等)が制御されるとともに、投影光学系の結像特性の変化の内、照明光ILの吸収により変化する成分を補正すべく、光電センサユニット100の測定結果に基づいて結像特性調整手段が制御される。この結果、結像特性調整手段により、投影光学系の結像特性の変化分(変動要因に比例して変化する成分及び照明光(IL)の吸収により変化する成分)が良好に補正される。

請求項（抜粋）：

照明光によりマスクを照明し、前記マスクに形成されたパターンを投影光学系を介して感応基板上に投影露光する投影露光装置であって、前記投影光学系の結像特性をその変動量に比例して変化させる変動要因を測定する第1の測定手段と;前記投影光学系の結像特性を測定する第2の測定手段と;前記投影光学系の結像特性を調整する結像特性調整手段と;前記投影光学系の結像特性の変化の内、変動要因に比例して変化する成分を補正すべく、前記第1の測定手段の測定結果に基づいて前記結像特性調整手段を制御するとともに、前記投影光学系の結像特性の変化の内、前記照明光の吸収により変化する成分を補正すべく、前記第2の測定手段の測定結果に基づいて結像特性調整手段を制御する制御手段とを有する投影露光装置。

IPC (2件)：

H01L 21/027 ,  G03F 7/20 521

FI (3件)：

H01L 21/30 516 A ,  G03F 7/20 521 ,  H01L 21/30 515 D

引用特許：

審査官引用 (3件)

• 投影露光装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平6-224995   出願人：株式会社ニコン
• 特開平1-273318
  
• 投影露光装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平7-032247   出願人：株式会社ニコン