特許
J-GLOBAL ID：200903040327080153
転写装置およびデバイス製造方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
藤元 亮輔
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2004-356284
公開番号（公開出願番号）：特開2006-165371
出願日： 2004年12月09日
公開日（公表日）： 2006年06月22日
要約：
【課題】 被転写物に接触した状態でのモールドの位置を確認できるようにした転写装置を提供する。【解決手段】 転写装置は、パターンが形成されたモールドMを、基板W上の被転写物LPに接触させてパターンを被転写物に転写する。該転写装置は、モールドが被転写物に接触している状態において、モールドの位置に関する計測を行う計測手段IF1を有する。また、計測手段の計測結果に基づいて、モールドと基板との位置合わせを行うアライメント手段MSを有する。 【選択図】 図4A
請求項（抜粋）：
パターンが形成されたモールドを、基板上の被転写物に接触させて前記パターンを前記被転写物に転写する転写装置であって、
前記モールドが前記被転写物に接触している状態において、前記モールドの位置に関する計測を行う計測手段を有することを特徴とする転写装置。
IPC (1件)：
FI (1件)：
Fターム (1件)：
引用特許：
出願人引用 (1件)
審査官引用 (9件)
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