ニトリル型疎水性ブロックを有するスルホン化ポリマーおよび固体高分子電解質

発明者： , , ,
出願人/特許権者：
代理人 (4件)：鈴木俊一郎 , 牧村浩次 , 高畑ちより , 鈴木亨
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2004-284691
公開番号（公開出願番号）：特開2005-133081
出願日： 2004年09月29日
公開日（公表日）： 2005年05月26日
要約：

【解決課題】スルホン酸基の導入量を増加しても優れた耐熱水性を有するスルホン化ポリマー、および該スルホン化ポリマーからなるプロトン伝導度が高く、発電性能に優れた固体高分子電解質を提供すること。【解決手段】本発明のスルホン化ポリマーは、下記一般式(1’)で表される繰返し単位を有することを特徴とする。【化1】(式中、Bは独立に酸素原子または硫黄原子であり、R1〜R3は互いに同一でも異なっていてもよく、水素原子、フッ素原子、ニトリル基またはアルキル基であり、nは2以上の整数であり、Qは下記一般式(q)で表される構造を示す。)【化2】(式中、Aは独立に2価の原子もしくは有機基または直接結合であり、R4〜R11は互いに同一でも異なってもよく、水素原子、フッ素原子、アルキル基または芳香族基である。)【選択図】なし

請求項（抜粋）：

下記一般式(1)で表されることを特徴とする化合物。

IPC (2件)：

C08G61/12 , H01B1/06

FI (2件)：

C08G61/12 , H01B1/06 A

Fターム (8件)：

4J032CA04 , 4J032CB03 , 4J032CB04 , 5G301CA30 , 5G301CD01 , 5H026AA06 , 5H026CX04 , 5H026EE18

引用特許：

出願人引用 (1件)

米国特許第5,403,675号公報

審査官引用 (8件)

芳香族ポリエーテルの製造法及び芳香族ポリエーテル
公報種別：公開公報出願番号：特願平5-090431 出願人：出光興産株式会社
ポリシアノアリールエーテル系樹脂の製造法
公報種別：公開公報出願番号：特願平5-229685 出願人：出光興産株式会社
高純度ポリシアノアリールエーテルの製造方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平7-067287 出願人：出光石油化学株式会社

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