特許
J-GLOBAL ID:200903040440579873

仕切構造型カーボンナノ構造物製造装置

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (2件): 特許業務法人原謙三国際特許事務所 ,  三木 久巳
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2005-040453
公開番号(公開出願番号):特開2006-225199
出願日: 2005年02月17日
公開日(公表日): 2006年08月31日
要約:
【目的】良好な生成品質のカーボンナノ構造物の連続生産を行うことのできるカーボンナノ構造物の仕切構造式製造装置を提供することを目的とする。【構成】 反応炉1の一端の開口側には原料ガス流入口3と、キャリアガス流入口4が設けられている。触媒基体は反応炉1の加熱領域に導入される。原料ガスから分解する分解ガスが原料ガス流入口3側に逆流するのを防止する仕切部材5が原料ガス流入口3側に設けられており、その断熱効果により原料ガスや分解ガス等の原料ガス流入口側への逆流を抑制し、良質のカーボンナノ構造物の連続生産を行うことができる。【選択図】 図1
請求項(抜粋):
原料ガス流入口と、排気口と、前記原料ガス流入口と前記排気口の間に設けた加熱領域とを備えた反応炉を有し、前記加熱領域に触媒基体を搬入し、前記原料ガス流入口より原料ガスを導入し、前記反応炉内に前記原料ガス流入口から前記排気口側に原料ガスを連続的に流通させながら前記触媒基体の触媒と反応させることにより基体上にカーボンナノ構造物を成長させるカーボンナノ構造物製造装置であって、 前記原料ガスから分解した分解ガスが前記原料ガス流入口側に逆流するのを防止する仕切部材を前記原料ガス流入口側に設けたことを特徴とする仕切構造型カーボンナノ構造物製造装置。
IPC (1件):
C01B 31/02
FI (1件):
C01B31/02 101F
Fターム (14件):
4G146AA07 ,  4G146AA11 ,  4G146AB06 ,  4G146BA12 ,  4G146BA48 ,  4G146BC09 ,  4G146BC23 ,  4G146BC31B ,  4G146BC33B ,  4G146BC42 ,  4G146BC43 ,  4G146DA03 ,  4G146DA13 ,  4G146DA47
引用特許:
出願人引用 (1件) 審査官引用 (4件)
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