特許
J-GLOBAL ID：200903040619241727
プラズマア-クト-チシステム
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
杉村 暁秀 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-303993
公開番号（公開出願番号）：特開2000-135567
出願日： 1999年10月26日
公開日（公表日）： 2000年05月16日
要約：
【要約】【課題】 前作業のプロセス流体を有効に除去し、次の作業のプロセス流体を迅速に充填し得るプラズマアークトーチシステムを得る。【解決手段】 このプラズマアークトーチシステム10はプロセスガスノズル16、シールドガスノズル22、電極14、プロセスガス用の通路20、及びこの通路に連結されたプロセスガス供給管30を有するトーチ12と、少なくとも第1、及び第2のプロセスガス供給源44、48、52、72、76、及び浄化ガス供給源44を有するプロセス流体供給システムと、これ等供給源を供給管に選択的に連結するソレノイド弁V1〜V9を有する弁システムと、この弁システムを作動させるアクチュエータシステムと、制御装置78、及び電子データ記憶装置80を有する制御システムとを有し、自動的に前のプロセス流体の駆逐と、新たなプロセス流体の充填とを自動的に行うことができる。
請求項（抜粋）：
自動的な浄化、及び充填能力を有するプラズマアークトーチシステムにおいて、ノズルと、このノズルに隣接する電極であって、この電極から前記ノズルを経て工作物まで延びる電弧を支持するように作動し得る電極と、前記ノズルを経てプロセス流体を前記工作物まで供給するためのトーチ内にある通路と、この通路内にプロセス流体を供給するため前記通路に連結された供給管とを有するプラズマアークトーチと、第1プロセス流体、及び第2プロセス流体をそれぞれ含む少なくとも第1プロセス流体供給源と、第2プロセス流体供給源と、不活性浄化ガスを含む浄化ガス供給源とを有するプロセス流体供給システムと、前記第1プロセス流体供給源、第2プロセス流体供給源、及び浄化ガス供給源の1個に前記供給管を選択的に連結するように作動し得る少なくとも1個の弁を有し、前記プロセス流体供給システムと前記供給管との間に連結された弁システムと、前記弁システムをして前記供給管を前記供給源の1つに連結させるように電気的に作動することができ、前記弁システムに連結されたアクチュエータシステムと、前記アクチュエータシステムに電気的に接続されたプログラミングすることができる制御装置と、プロセス流体の必要条件を含む少なくとも1個のプロセスセットを含んでいて前記制御装置にデータ交信する電子データ記憶装置とを有する制御システムとを具え、前記プロセスセット内に明確にされているプロセス流体の必要条件に従って、前記供給管を前記第1プロセス流体供給源に、又は前記第2プロセス流体供給源に自動的に連結するように、前記データ記憶装置からプロセスセットを読み出し、前記アクチュエータシステムの作動を制御するように前記制御装置がプログラミングされていることを特徴とするプラズマアークトーチシステム。
IPC (3件)：
B23K 10/00 504
, B23K 10/00 502
, H05H 1/42
B23K 10/00 504
, B23K 10/00 502 B
, H05H 1/42
