基板保持装置および基板保持方法

発明者： , , , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：梶良之 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-397735
公開番号（公開出願番号）：特開2003-192323
出願日： 2001年12月27日
公開日（公表日）： 2003年07月09日
要約：

【要約】【課題】本発明は以上の問題を鑑みてなされたものであり、従来技術に比べて部品点数の少ない構成で且つ析出用基板の交換が容易である。【解決手段】基板保持装置1は、析出用基板14を着脱可能に保持するものであり、析出用基板14との当接面3aに吸引穴3bの一端が開口された基板受け台3を備えている。基板受け台3に設けられた吸引穴3bは基板受け台3に内装された複数のパイプ4が析出用基板14との当接面に表れたものである。パイプ4は吸引穴3bの他端で1つに結合されて基板受け台3の外部に延長し、真空ポンプ5に接続され、ガスを排出可能なガス排出機構7を形成している。

請求項（抜粋）：

溶湯に浸漬して溶解対象物を析出させるように移動される析出用基板を着脱可能に保持する基板保持装置において、前記析出用基板との当接面に吸引穴の一端が開口された基板受け台と、前記基板受け台の吸引穴の他端に接続され、ガスを排出可能なガス排出機構とを有することを特徴とする基板保持装置。

Fターム (10件)：

4G072AA01 , 4G072BB02 , 4G072BB12 , 4G072GG04 , 4G072HH01 , 4G072NN01 , 4G072NN05 , 4G072NN21 , 4G072QQ20 , 4G072UU01

引用特許：

審査官引用 (10件)

液相エピタキシャル成長装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平4-021746 出願人：株式会社村田製作所
単結晶育成装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平4-309977 出願人：松下電器産業株式会社
電気光学品の製造方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平6-057174 出願人：日本碍子株式会社

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