特許
J-GLOBAL ID：200903040789583746
感放射線性塗布組成物及びそれを使用する半導体製造方法
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
長谷川 一 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-348245
公開番号（公開出願番号）：特開平9-171248
出願日： 1995年12月19日
公開日（公表日）： 1997年06月30日
要約：
【要約】【課題】 本発明は、単層のプロセスにて反射の影響を低減させ、パターン形状の優れた高解像度の感放射線性塗布組成物及びその組成物を用いる半導体製造方法を提供することにある。【解決手段】 本発明は、アルカリ可溶性樹脂、溶媒及び感放射線化合物からなる感放射線性塗布組成物において、該組成物に、放射された放射線(第1放射線)により、第1放射線より1〜150nm長い波長で、且つ500nm以下の波長の放射線(第2放射線)を放出する蛍光物質を含有させることよりなる感放射線性塗布組成物及び該感放射線性塗布組成物を半導体製造工程に用いることよりなる半導体製造方法である。
請求項（抜粋）：
アルカリ可溶性樹脂、溶媒及び感放射線化合物からなる感放射線性塗布組成物において、該組成物に、放射された放射線(第1放射線)により、第1放射線より1〜150nm長い波長で、且つ500nm以下の波長の放射線(第2放射線)を放出する蛍光物質を含有させることを特徴とする感放射線性塗布組成物。
IPC (10件)：
G03F 7/004 501
, G03F 7/004 503
, C09D 5/22 PQU
, C09D 5/32 PRB
, C09D 5/33 PRB
, C09K 11/06
, G03F 7/022
, G03F 7/023 511
, G03F 7/20 521
, H01L 21/027
G03F 7/004 501
, G03F 7/004 503
, C09D 5/22 PQU
, C09D 5/32 PRB
, C09D 5/33 PRB
, C09K 11/06 Z
, G03F 7/022
, G03F 7/023 511
, G03F 7/20 521
, H01L 21/30 502 R
