特許
J-GLOBAL ID:200903040858484054
シリコンインゴット鋳造用鋳型およびその製造方法
発明者:
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出願人/特許権者:
代理人 (1件):
富田 和夫 (外1名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2000-002439
公開番号(公開出願番号):特開2001-198648
出願日: 2000年01月11日
公開日(公表日): 2001年07月24日
要約:
【要約】【課題】 シリコンインゴット鋳造用鋳型を提供する。【解決手段】鋳型1の内側に内層3を形成してなるシリコンインゴット鋳造用鋳型であって、前記内層3は、50〜300μmの微細溶融シリカ砂31が、0.2〜4.0μmの窒化ケイ素粉末5および残部:ナトリウム10〜6000ppm含有のシリカ6からなる混合体素地により結合された構造の層であることを特徴とする。
請求項(抜粋):
鋳型内側に内層を形成してなるシリコンインゴット鋳造用鋳型であって、前記内層は、50〜300μmの微細溶融シリカ砂が、0.2〜4.0μmの窒化ケイ素粉末:75〜90重量%および残部:ナトリウム10〜6000ppm含有のシリカからなる混合体素地により結合された構造の層であることを特徴とするシリコンインゴット鋳造用鋳型。
IPC (3件):
B22C 1/00
, B22C 3/00
, H01L 31/04
FI (4件):
B22C 1/00 B
, B22C 3/00 B
, B22C 3/00 E
, H01L 31/04 H
Fターム (14件):
4E092AA02
, 4E092AA03
, 4E092AA04
, 4E092BA13
, 4E092BA20
, 4E092CA01
, 4E092CA03
, 4E092DA02
, 4E092EA10
, 4E092FA10
, 4E092GA10
, 5F051AA03
, 5F051CB05
, 5F051GA04
引用特許: