特許
J-GLOBAL ID：200903040881040457
被膜を備えた光学物品の製造方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
三品 岩男 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-021241
公開番号（公開出願番号）：特開平9-209154
出願日： 1996年02月07日
公開日（公表日）： 1997年08月12日
要約：
【要約】【課題】耐環境性が大きく、気相成長法により一貫した工程で形成することができる被膜を備えた光学物品を提供する。【解決手段】基材の上に、Siを含む有機化合物ガスおよびTiを含む有機化合物ガスの少なくとも一方を用い、プラズマを用いた化学気相成長法により、厚さ方向に向かって屈折率が変化している変性層を形成する。記変性層の上に、Siを含む有機化合物ガスと、酸素ガスとの混合ガスを用い、プラズマを用いた化学気相成長法により、ハードコート層を形成する。ハードコート層の表面を、少なくとも酸素ガスを含むガスのプラズマによって活性化処理する。活性化処理されたハードコート層の上に、反射防止膜を形成する。
請求項（抜粋）：
基材上に被膜を備えた光学物品の製造方法であって、前記基材の上に、Siを含む有機化合物ガスおよびTiを含む有機化合物ガスの少なくとも一方を用い、プラズマを用いた化学気相成長法により、厚さ方向に向かって屈折率が変化している変性層を形成する第1の工程と、前記変性層の上に、Siを含む有機化合物ガスと、酸素ガスとの混合ガスを用い、プラズマを用いた化学気相成長法により、ハードコート層を形成する第2の工程と、前記ハードコート層の表面を、少なくとも酸素ガスを含むガスのプラズマによって活性化処理する第3の工程と、前記活性化処理されたハードコート層の上に、反射防止膜を形成する第4の工程とを有することを特徴とする被膜を備えた光学物品の製造方法。
IPC (4件)：
C23C 16/50
, C03C 17/34
, G02B 1/11
, G02F 1/1335
C23C 16/50
, C03C 17/34 Z
, G02F 1/1335
, G02B 1/10 A
