特許

J-GLOBAL ID：200903040981396054

防曇性薄膜及びその製造方法

発明者： 武部 安男 ,  大竹 忠 ,  美濃 規央 ,  小川 一文
出願人/特許権者： 松下電器産業株式会社
代理人 (1件)： 池内 寛幸 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-204888
公開番号（公開出願番号）：特開平7-053739
出願日： 1993年08月19日
公開日（公表日）： 1995年02月28日
要約：

【要約】【目的】 オングストロームオーダーの成膜および膜厚制御が可能で、そのため透明性が良好でピンホールフリー、かつ強固に基体と結合している防曇性薄膜およびその製造方法を提供する。【構成】 膜構成分子が基体と直接または内層膜を介して間接的にSi、Ge、Sn、Ti、Zr、S、Cから選ばれる少なくとも1つの原子を介して共有結合しており、前記膜内にエーテル結合、スルフィド結合、エステル結合、ホスフォニル結合(-PO2 -)、ホスフィニル結合(-PO-)、スルフォニル結合(-SO2 -)、スルフィニル結合(-SO-)、アミノ基、リン酸基、水酸基、メルカプト基、カルボキシル基、スルフォン酸基、第4級アンモニウム基、第4級ホスフォニウム基から選ばれる少なくとも1つの結合または官能基を含み、極めて高い親水性を有している。

請求項（抜粋）：

基体上に設けた化学吸着膜が、エーテル結合、スルフィド結合、エステル結合、ホスフォニル結合(-PO2 -)、ホスフィニル結合(-PO-)、スルフォニル結合(-SO2 -)、及びスルフィニル結合(-SO-)から選ばれる少なくとも1つの結合を膜構成分子の骨格中に含み、かつ防曇性を有することを特徴とする防曇性薄膜。

IPC (4件)：

C08J 5/18 CFJ ,  C09D 5/00 PPG ,  C09D129/04 PFL ,  C09K 3/18

引用特許：

審査官引用 (4件)

• 特開平4-328701
  
• 親水性薄膜及びその製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平5-220823   出願人：松下電器産業株式会社
• イオン伝導性薄膜及びその製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平5-194420   出願人：松下電器産業株式会社
• 特開平4-328701