特許
J-GLOBAL ID：200903040983700478
ニッケル金属膜形成用溶液、およびこれを用いたニッケル金属薄膜の形成方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
鈴江 武彦 (外5名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-007868
公開番号（公開出願番号）：特開2001-192843
出願日： 2000年01月17日
公開日（公表日）： 2001年07月17日
要約：
【要約】【課題】 純度が高いニッケル金属薄膜を、低コストかつ簡便なプロセスで基板上に直接形成する方法を提供する。【解決手段】 ヒドラゾンユニットを有する還元性のキレート型配位子と、ニッケルイオンとを含有するアルコール溶液からなるニッケル金属膜形成用溶液を基板上に塗布して、ゲル膜を形成する工程と、得られたゲル膜を不活性ガス雰囲気中で熱処理する工程とを具備するニッケル金属薄膜の形成方法である。
請求項（抜粋）：
ヒドラゾンユニットを有する還元性のキレート型配位子と、ニッケルイオンとを含有するアルコール溶液からなるニッケル金属膜形成用溶液。
Fターム (7件)：
4K022AA03
, 4K022AA04
, 4K022BA14
, 4K022DA06
, 4K022DB04
, 4K022DB05
, 4K022DB24
