微細金属構造体の製造方法

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出願人/特許権者： ,
代理人 (1件)：渡辺三彦
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-112181
公開番号（公開出願番号）：特開2004-270021
出願日： 2003年03月11日
公開日（公表日）： 2004年09月30日
要約：

【課題】PMMA母型の表面上に無電解めっきにより均一な導電層膜を形成し、工程間処理を簡易化する微細金属構造体の製造方法を提供する。【解決手段】X線パターンが形成されたPMMA母型3の表面上に導電層膜を形成し電鋳を行う微細金属構造体の製造方法において、PMMA母型3の表面を高クロム酸浴により粗化するエッチング工程と、センサタイジング工程と、アクチベーティング工程と、導電層膜を形成する無電解めっき工程と、を含むことを特徴とする微細金属構造体5の製造方法。【選択図】図1

請求項（抜粋）：

パターンが形成された樹脂母型の表面上に導電層膜を形成し、該導電層膜を電極として電鋳を行う微細金属構造体の製造方法において、前記樹脂母型の表面を粗化するエッチング工程と、前記樹脂母型の表面に金属イオンを吸着させるセンサタイジング工程と、前記金属イオンの還元作用によって金属触媒を前記樹脂母型の表面に分布形成するアクチベーティング工程と、前記金属触媒を核としてめっき被膜を形成することにより前記導電層膜を形成する無電解めっき工程と、を含むことを特徴とする微細金属構造体の製造方法。

IPC (3件)：

C25D1/00 , C23C18/20 , C23C18/24

FI (4件)：

C25D1/00 381 , C25D1/00 361 , C23C18/20 Z , C23C18/24

Fターム (16件)：

4K022AA13 , 4K022AA37 , 4K022AA41 , 4K022AA50 , 4K022BA14 , 4K022BA35 , 4K022CA02 , 4K022CA05 , 4K022CA06 , 4K022CA07 , 4K022CA08 , 4K022CA17 , 4K022CA18 , 4K022CA20 , 4K022CA21 , 4K022DA01

引用特許：

審査官引用 (5件)

特開平2-153087
特開昭58-217689
特開昭64-046997

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