特許
J-GLOBAL ID:200903041019728599
高周波加熱装置
発明者:
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出願人/特許権者:
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代理人 (2件):
宮田 金雄
, 高瀬 彌平
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2003-050708
公開番号(公開出願番号):特開2004-259646
出願日: 2003年02月27日
公開日(公表日): 2004年09月16日
要約:
【課題】高周波加熱による被加熱物の加熱ムラを解消する高周波加熱装置を得る。【解決手段】加熱室1と、高周波を発振する高周波発振器3と、高周波発振器3から発振する高周波を加熱室1に伝搬する導波管5と、導波管5内に回転軸6a、6bを有し高周波を加熱室1内に放射させる2つの回転アンテナ7a、7bとを備え、2つの回転アンテナ7a、7bの回転速度を互いに異ならせるように制御する制御手段10を設けたものである。【選択図】 図1
請求項(抜粋):
加熱室と、高周波を発振する高周波発振器と、高周波発振器から発振する高周波を前記加熱室に伝搬する導波管と、前記導波管内に回転軸を有し高周波を前記加熱室内に放射させる2つの回転アンテナとを備え、前記2つの回転アンテナの回転速度を互いに異ならせるように制御することを特徴とする高周波加熱装置。
IPC (4件):
H05B6/74
, H05B6/68
, H05B6/70
, H05B6/72
FI (4件):
H05B6/74 F
, H05B6/68 320Q
, H05B6/70 E
, H05B6/72 A
Fターム (16件):
3K086AA01
, 3K086BA08
, 3K086CA02
, 3K086CB04
, 3K086CC20
, 3K086CD11
, 3K090AA01
, 3K090AA04
, 3K090AB02
, 3K090BA01
, 3K090BB07
, 3K090BB17
, 3K090CA02
, 3K090DA01
, 3K090DA08
, 3K090DA18
引用特許:
審査官引用 (5件)
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特開平3-173094
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高周波加熱装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願平6-214355
出願人:三洋電機株式会社
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電子レンジのマイクロ波分散装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願平10-223465
出願人:三星電子株式会社
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特開昭52-101741
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電子レンジ
公報種別:公開公報
出願番号:特願2000-365667
出願人:三洋電機株式会社
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