特許
J-GLOBAL ID:200903041088511798

マイクロ波プラズマ処理装置及びその処理方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 宮川 貞二
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平10-341779
公開番号(公開出願番号):特開2000-167385
出願日: 1998年12月01日
公開日(公表日): 2000年06月20日
要約:
【要約】【課題】 マイクロ波プラズマ処理装置の試料を入れる処理容器以外の部分を小型化し、小型化しても均一なプラズマを形成でき、シーズニング時間が短縮化されたマイクロ波プラズマ処理装置を提供する。【解決手段】 プラズマを用いて処理される試料を収容する処理容器と;処理容器を封止し、かつプラズマを生成するマイクロ波を透過させて処理容器内に導入する封止部材と;周側面にマイクロ波を導入するマイクロ波導入口が開設された環状の管状部材であって、導入されたマイクロ波を伝播させる誘電体が内嵌された環状の管状部材と;環状の管状部材と封止部材との間に、封止部材及び環状の管状部材に対向して配設され、マイクロ波が通過する所定のスリットが開設されたスリット板と;封止部材の温度を調整する温度調整手段とを備えることを特徴とする;マイクロ波プラズマ処理装置とする。
請求項(抜粋):
プラズマを用いて処理される試料を収容する処理容器と;前記処理容器を封止し、かつ前記プラズマを生成するマイクロ波を透過させて前記処理容器内に導入する封止部材と;周側面に前記マイクロ波を導入するマイクロ波導入口が開設された環状の管状部材であって、導入されたマイクロ波を伝播させる誘電体が内嵌された環状の管状部材と;前記環状の管状部材と前記封止部材との間に、前記封止部材及び前記環状の管状部材に対向して配設され、前記マイクロ波が通過する所定のスリットが開設されたスリット板と;前記封止部材の温度を調整する温度調整手段とを備えることを特徴とする;マイクロ波プラズマ処理装置。
IPC (4件):
B01J 19/08 ,  C23C 16/50 ,  H01L 21/205 ,  H01L 21/3065
FI (4件):
B01J 19/08 E ,  C23C 16/50 E ,  H01L 21/205 ,  H01L 21/302 B
Fターム (35件):
4G075AA30 ,  4G075BA01 ,  4G075BA08 ,  4G075BC04 ,  4G075BC06 ,  4G075CA26 ,  4G075CA47 ,  4G075CA62 ,  4G075DA02 ,  4K030CA12 ,  4K030FA01 ,  4K030JA10 ,  4K030KA08 ,  4K030KA39 ,  4K030KA41 ,  5F004AA01 ,  5F004AA02 ,  5F004AA16 ,  5F004BA13 ,  5F004BB14 ,  5F004BB18 ,  5F004BC08 ,  5F004CA01 ,  5F004CA09 ,  5F045AA09 ,  5F045DQ04 ,  5F045EH02 ,  5F045EH03 ,  5F045EH18 ,  5F045EH19 ,  5F045EK06 ,  5F045EK08 ,  5F045EK10 ,  5F045EK27 ,  5F045GB05
引用特許:
審査官引用 (2件)

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