特許
J-GLOBAL ID：200903041189518335
投影露光装置
出願人/特許権者：
代理人 (1件)： 大森 聡
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-310724
公開番号（公開出願番号）：特開平8-227852
出願日： 1995年11月29日
公開日（公表日）： 1996年09月03日
要約：
【要約】【課題】 照明光学系が切り換えられても、露光光吸収等により結像面の位置が変化しても、正確に感光基板のオートフォーカスを行う。【解決手段】 ステージスリット方式の焦点位置検出系では、光源系1からの露光光IL1でレチクル10上の開口パターン11Aを照明し、開口パターン11Aを通過した光を投影光学系13、及び基準パターン板23等を介して受光する。ステージ発光方式の焦点位置検出系では、光源35からの照明光で基準パターン板23を照明し、基準パターン板23を通過して投影光学系13を往復した光を光電検出器42で受光する。送光系24、及び集光光学系22等からなる斜入射方式のAFセンサのキャリブレーションを、ステージスリット方式の焦点位置検出系、及びステージ発光方式の焦点位置検出系を用いて行う。
請求項（抜粋）：
露光光で転写用のパターンが形成されたマスクを照明する照明光学系と;前記露光光のもとで前記マスクのパターンの像を感光基板上に投影する投影光学系と;前記感光基板を前記投影光学系の光軸に垂直な平面内で移動させると共に、前記感光基板を前記光軸方向に位置決めする基板ステージと;前記投影光学系の露光フィールド内の前記感光基板の所定の計測点上に、前記投影光学系の光軸に対して斜めに焦点検出用のパターン像を投影する送光系と、前記感光基板からの反射光を受光して前記焦点検出用のパターン像を再結像し、該再結像された像の横ずれ量に対応する焦点信号を生成する受光系とからなる斜入射方式の焦点位置検出系と;を有し、前記焦点信号に基づいて前記感光基板の表面を前記投影光学系に対して合焦させる投影露光装置において、前記露光光と同じ波長域の照明光で所定の計測用パターン像を前記基板ステージ上、又は前記マスク上に投影する送光系と、前記所定の計測用パターン像からの光を前記投影光学系、及び前記基板ステージ上に設けられた第1の開口パターンを介して受光し、該受光された光量に対応する第1の焦点検出信号を生成する受光系とを有する独立照明方式の焦点位置検出系と;前記照明光学系により照明された前記マスク上の所定のパターンからの露光光を、前記投影光学系、及び前記基板ステージ上に設けられた第2の開口パターンを介して受光し、該受光された光量に対応する第2の焦点検出信号を生成するステージスリット方式の焦点位置検出系と;を備え、前記独立照明方式の焦点位置検出系により求められる前記投影光学系に対する第1の合焦位置と、前記ステージスリット方式の焦点位置検出系により求められる前記投影光学系に対する第2の合焦位置とに基づいて、前記斜入射方式の焦点位置検出系の焦点信号により求められる最終的な合焦位置の補正を行うことを特徴とする投影露光装置。
IPC (5件)：
FI (6件)：
引用特許：
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