管理システム、管理方法及び装置及び管理装置の制御方法

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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：大塚康徳 (外3名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-129327
公開番号（公開出願番号）：特開2003-324044
出願日： 2002年04月30日
公開日（公表日）： 2003年11月14日
要約：

【要約】【課題】ある産業用機器によるパラメータ値の最適化結果を適切に他の産業用機器に反映することを可能とし、効率的なパラメータ値設定を実現する。【解決手段】複数の半導体露光装置を管理するシステムにおいて、それら半導体露光装置の個々の特性を示すTIS情報が保持される。半導体露光装置1では、設定されたパラメータ値とそれ以外のパラメータ値を用いて得られたAGA計測結果、仮想的にパラメータ値を変化させて得られた仮想のAGA計測結果に基づいてパラメータ値が最適化される(処理11〜18)。このTIS情報に基づいて、最適化されたパラメータ値を他の産業用機器への反映するか否かを決定し(処理19)、反映すると決定されたならば最適化されたパラメータ値で半導体露光装置2のパラメータ値を最適化する(処理20)。

請求項（抜粋）：

複数の産業用機器を管理する管理システムで、各産業用機器をネットワークで接続し、1つの産業用機器における所定のパラメータの値の変更処理を少なくとも1つの他の産業用機器にも反映させることを特徴とする管理システム。

IPC (4件)：

H01L 21/02 , G03F 7/20 521 , G03F 9/00 , H01L 21/027

FI (6件)：

H01L 21/02 Z , G03F 7/20 521 , G03F 9/00 H , H01L 21/30 502 G , H01L 21/30 514 Z , H01L 21/30 525 W

Fターム (5件)：

5F046AA28 , 5F046BA03 , 5F046DA11 , 5F046DD06 , 5F046FC04

引用特許：

審査官引用 (4件)

製造ライン及び該製造ラインにおける条件設定方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平5-086059 出願人：株式会社日立製作所
半導体製造プロセス安定化支援システム
公報種別：公開公報出願番号：特願平11-056611 出願人：株式会社日立製作所
露光方法およびその露光システム
公報種別：公開公報出願番号：特願2000-391824 出願人：株式会社日立製作所

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