特許
J-GLOBAL ID:200903041215847105

半導体装置及びその製造方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 佐藤 隆久
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平9-044312
公開番号(公開出願番号):特開平10-242312
出願日: 1997年02月27日
公開日(公表日): 1998年09月11日
要約:
【要約】【課題】性能の良好なフォトトランジスタ間のクロストークが良好で、同じ基板に形成されているバイポーラトランジスタ、MOSトランジスタの相互作用を抑制できる半導体装置を提供する。【解決手段】受光素子等の素子ブロック相互をN型分離領域で分離し、受光素子を含む素子ブロックではP型埋込層を共通として設け、その他の素子ブロックでブロック毎に独立したP型埋込層を設ける。
請求項(抜粋):
半導体基板に形成された少なくとも一つの素子を含む素子ブロックが、底面部を第1導電型埋込層で、側面部を第1導電型分離領域でそれぞれ包囲され、かつ該第1導電型分離領域が第2導電型分離領域で包囲されていることを特徴とする半導体装置。
IPC (5件):
H01L 21/8249 ,  H01L 27/06 ,  H01L 21/761 ,  H01L 21/8222 ,  H01L 31/10
FI (4件):
H01L 27/06 321 C ,  H01L 21/76 J ,  H01L 27/06 101 D ,  H01L 31/10 A
引用特許:
審査官引用 (7件)
全件表示

前のページに戻る