特許
J-GLOBAL ID：200903041254660675

ポジ型レジスト用塗布組成物、及びポジ型レジストパターンの形成方法

発明者：
前田 繁宏

前田 繁宏 について


出願人/特許権者：
ダイセル化学工業株式会社

ダイセル化学工業株式会社 について


代理人 (1件)： 後藤 幸久
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-057413
公開番号（公開出願番号）：特開平11-202492
出願日： 1998年01月14日
公開日（公表日）： 1999年07月30日
要約：
【要約】【課題】 保存安定性に優れ、調製後長時間経過した後でも良好なレジスト感度が得られるポジ型レジスト用塗布組成物を得る。【解決手段】 ポジ型レジスト用塗布組成物は、放射線照射により発生する酸の作用により放射線照射部分の現像液に対する溶解性を変化させてパターンを形成する塗布組成物であって、溶剤として、ジエチルカーボネートなどの炭酸エステルを含む。前記塗布組成物は、例えば、(A2)アルカリ可溶性樹脂、(B)感放射線性酸発生剤、(D)酸の作用により化学的に変化すると共に、該化学的変化を通じて、前記アルカリ可溶性樹脂(A2)の現像液に対する溶解性を増大可能な溶解性制御剤、及び(C)炭酸エステルを含む溶剤とで構成できる。
請求項（抜粋）：
放射線照射により発生する酸の作用により放射線照射部分の現像液に対する溶解性を変化させてパターンを形成するポジ型レジスト用塗布組成物であって、溶剤として炭酸エステルを含むポジ型レジスト用塗布組成物。
IPC (4件)：
G03F 7/039 601 ,  G03F 7/004 501 ,  G03F 7/004 503 ,  H01L 21/027
FI (4件)：
G03F 7/039 601 ,  G03F 7/004 501 ,  G03F 7/004 503 A ,  H01L 21/30 502 R
引用特許：
審査官引用 (5件)
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