感光性組成物及びパターンの形成方法

発明者： , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：小田島平吉 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-099139
公開番号（公開出願番号）：特開平7-146552
出願日： 1994年04月14日
公開日（公表日）： 1995年06月06日
要約：

【要約】【目的】高解像度で、微細画像パターン形成能に優れたポジ型フォトレジスト、印刷材料等に有用な感光性組成物及びこれを用いたパターンの形成方法を提供する。【構成】 A)カルボキシル基及びヒドロキシフェニル基を必須成分として含有する重合体、又はA′)カルボキシル基を必須成分として含有する重合体とA′′)ヒドロキシフェニル基を必須成分として含有する重合体;B)一分子中に少なくとも2個以上のビニルエーテル基を含有する化合物;及びC)活性エネルギー線照射により酸を発生する化合物を必須成分として含むことを特徴とする感光性組成物及びそれを用いたパターンの形成方法。

請求項（抜粋）：

A)カルボキシル基とヒドロキシフェニル基を含有する重合体、B)一分子中に少なくとも2個以上のビニルエーテル基を含有する化合物、及びC)活性エネルギー線照射により酸を発生する化合物を必須成分として含むことを特徴とする感光性組成物。

IPC (5件)：

G03F 7/029 , G03F 7/004 503 , G03F 7/039 501 , H01L 21/02 , H05K 3/00

引用特許：

審査官引用 (6件)

特開平1-106038
特開昭55-012995
特開昭48-089003

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