特許

J-GLOBAL ID：200903041256259196

光学素子成形用型の再生方法

発明者： 宮崎 直 ,  浦井 茂雄 ,  野村 剛
出願人/特許権者： キヤノン株式会社
代理人 (1件)： 山下 穣平
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-311058
公開番号（公開出願番号）：特開2001-130918
出願日： 1999年11月01日
公開日（公表日）： 2001年05月15日
要約：

【要約】【課題】 光学ガラス素子成形用型の再生を研削研磨の工程なしに実現するために、実質的に光学素子成形用型の成形面としての表面層に適した材料を用いる場合において有効な光学ガラス素子成形用型の再生方法を提供する。【解決手段】 基盤と表面層との間に1個または2個以上の中間層を有する成形型を再生するに際して、前記表面層及び中間層の最上部を、イオンビームの照射によるエッチング処理によって、除去した後、露出した中間層を、その中間層の主成分を溶解する処理液で処理して、溶解除去し、次いで、新たな中間層及び表面層を設けることを特徴とする。

請求項（抜粋）：

基盤と表面層との間に1個または2個以上の中間層を有する成形型を再生するに際して、前記表面層及び中間層の最上部を、イオンビームの照射によるエッチング処理によって、除去した後、露出した中間層を、その中間層の主成分を溶解する処理液で処理して、溶解除去し、次いで、新たな中間層及び表面層を設けることを特徴とする、光学素子成形用型の再生方法。

IPC (4件)：

C03B 11/00 ,  C23F 1/00 103 ,  C23F 1/38 ,  C23F 4/00

FI (4件)：

C03B 11/00 M ,  C23F 1/00 103 ,  C23F 1/38 ,  C23F 4/00 C

Fターム (17件)：

4K057DA20 ,  4K057DB01 ,  4K057DB15 ,  4K057DB20 ,  4K057DD04 ,  4K057DK10 ,  4K057DN03 ,  4K057DN10 ,  4K057WA13 ,  4K057WA19 ,  4K057WA20 ,  4K057WB08 ,  4K057WB15 ,  4K057WC10 ,  4K057WE21 ,  4K057WN04 ,  4K057WN07

引用特許：

審査官引用 (5件)

• 成形型の再生方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平2-253413   出願人：オリンパス光学工業株式会社
• 特開平1-192733
  
• 光学素子のプレス成形方法および成形型
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平10-343275   出願人：キヤノン株式会社
• 光学素子成形用型
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平5-177547   出願人：キヤノン株式会社
• 特開平1-192733