特許
J-GLOBAL ID：200903041276276623

紫外光照射装置及び照射方法

発明者：
早藤 育生

早藤 育生 について

, 
大橋 允

大橋 允 について

, 
平岡 晃

平岡 晃 について


出願人/特許権者：
芝浦メカトロニクス株式会社

芝浦メカトロニクス株式会社 について


代理人 (5件)： 鈴江 武彦 ,  河野 哲 ,  中村 誠 ,  村松 貞男 ,  橋本 良郎
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2004-248795
公開番号（公開出願番号）：特開2005-099783
出願日： 2004年08月27日
公開日（公表日）： 2005年04月14日
要約：
【課題】 この発明は基板に塗布されたシール剤の部分にだけ紫外光を照射することができるようにした紫外光照射装置を提供することにある。【解決手段】 2枚の基板を貼り合わせたシール剤に紫外光を照射して硬化させる紫外光照射装置において、 紫外光を所定の長さの直線状で出射し、上記基板を貼り合わせたシール剤の部分だけを上記紫外光によって照射可能とする照射手段21,22を備えている。【選択図】 図1
請求項（抜粋）：
2枚の基板を貼り合わせたシール剤に紫外光を照射して硬化させる紫外光照射装置において、 紫外光を所定の長さの直線状で出射し、上記基板を貼り合わせたシール剤の部分だけを上記紫外光によって照射可能とする照射手段を備えていることを特徴とする紫外光照射装置。
IPC (4件)：
G09F9/00 ,  G02F1/1339 ,  G21K5/00 ,  G21K5/10
FI (4件)：
G09F9/00 342Z ,  G02F1/1339 505 ,  G21K5/00 Z ,  G21K5/10 S
Fターム (7件)：
2H089NA44 ,  2H089NA60 ,  5G435AA16 ,  5G435BB05 ,  5G435CC09 ,  5G435EE45 ,  5G435HH12
引用特許：
出願人引用 (3件) 審査官引用 (3件)

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