特許
J-GLOBAL ID：200903041320637930
調整方法
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
立石 篤司
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2005-134013
公開番号（公開出願番号）：特開2006-310683
出願日： 2005年05月02日
公開日（公表日）： 2006年11月09日
要約：
【課題】オフアクシスの面位置計測装置のセンサ間オフセットを高精度に検出する。【解決手段】ステップ205でウエハステージを初期位置に移動させた後、ステップ215における判断が肯定されるまで、ステップ207〜ステップ217が繰り返され、ウエハステージを移動させつつ、露光領域の外側に複数の計測点で、ウエハの面位置の計測を行い、その計測値から推定される近似平面を算出し、その近似平面を基準として、各計測点での計測値の偏差を算出する。そして、ステップ219で、計測点ごとに、偏差の平均値を算出し、その算出結果を、その計測点でのセンサ間オフセットとする。【選択図】図5
請求項（抜粋）：
投影光学系を介したパターンの像の投影領域の外側に配置され、かつ、前記投影光学系の光軸に関する被計測物体の面位置を計測する複数の計測点の所定基準に対する計測値の偏差の算出を、前記被計測物体上の複数の異なる位置に対して行う第1工程と;
前記算出された前記各計測点での偏差に基づいて、その計測点の計測値のオフセット成分を算出する第2工程と;を含む調整方法。
IPC (3件)：
H01L 21/027
, G01B 21/00
, G03F 7/207
H01L21/30 526B
, G01B21/00 G
, G03F7/207 H
2F069AA01
, 2F069BB15
, 2F069GG07
, 2F069JJ14
, 2F069NN00
, 2F069NN16
, 2F069NN17
, 2F069NN26
, 2F069PP02
, 5F046BA05
, 5F046DA14
, 5F046DB05
, 5F046DC10
