特許
J-GLOBAL ID:200903041343238626

IgE抗体産生低減剤およびアレルギー体質改善剤

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 戸田 親男
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2000-098294
公開番号(公開出願番号):特開2001-288093
出願日: 2000年03月31日
公開日(公表日): 2001年10月16日
要約:
【要約】【解決手段】 ラフィノースを有効成分とするIgE抗体産生低減剤およびアレルギー体質改善剤。【効果】 IgE抗体産生を低減することによって、アレルギーの予防/治療ができるだけでなく、IL-12、IFN-γの産生を増強することにより、Th1/Th2細胞バランスを是正し、アレルギー体質を改善することができる。
請求項(抜粋):
ラフィノースを有効成分として含有すること、を特徴とするアレルギー体質改善剤。
IPC (5件):
A61K 31/702 ,  A23L 1/30 ,  A61P 37/08 ,  A61P 43/00 111 ,  C07H 3/06
FI (6件):
A61K 31/702 ,  A23L 1/30 Z ,  A23L 1/30 B ,  A61P 37/08 ,  A61P 43/00 111 ,  C07H 3/06
Fターム (12件):
4B018MD31 ,  4B018ME07 ,  4C057BB04 ,  4C057CC01 ,  4C086AA01 ,  4C086AA02 ,  4C086EA01 ,  4C086MA01 ,  4C086MA04 ,  4C086NA14 ,  4C086ZB13 ,  4C086ZC02
引用特許:
審査官引用 (2件)
引用文献:
審査官引用 (2件)

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