液体中の溶存ガス濃度の調整装置及び調整方法

発明者： , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：高橋勝利
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-301779
公開番号（公開出願番号）：特開平11-128704
出願日： 1997年11月04日
公開日（公表日）： 1999年05月18日
要約：

【要約】【課題】液体に気体透過膜を介してガスを付加し、溶存ガス濃度の調整された液体を製造する際、溶存ガス濃度の測定値から付加するガスの流量をフィードバック制御する方法、原料液体の流量の測定値からガス流量をフィードフォワード制御する方法が提案されている。ガスの流量をフィードバック制御する方法では、短時間の流量変動には到底追従できない。また、フィードフォワード制御する方法では、高価なマイコン回路、高価なマスフローコントローラーを必要とし、その制御性も満足できるものではない。【解決手段】小流量のガス高濃度付加液体を中空糸膜を介して生成させ、これを一定比率で大流量の原料液体と均一混合する。膜モジュールに供給するガス圧力を一定に保つことにより変動する消費量に応じた溶存ガス濃度が一定に調整された液体を製造することができる。

請求項（抜粋）：

液体中の溶存ガス濃度を調整するために液体にガスを供給し、所望の溶存ガス濃度の液体を製造する装置において、小流量のガス高濃度付加液体を生成させるための中空糸膜モジュールと、大流量の原料液体を通過させるバイパス管路と、該膜モジュールとバイパス管路に原料液体を一定比率で分配する分配装置と、生成したガス高濃度付加液体とバイパス管路を経た原料液体とを合流させ均一に混合させる合流装置と、膜モジュールに供給されるガスの圧力を一定に保持するための調圧弁とからなる装置。

IPC (2件)：

B01F 1/00 , B01F 15/04

FI (2件)：

B01F 1/00 A , B01F 15/04 A

引用特許：

審査官引用 (5件)

超純水の比抵抗調整方法及び装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平5-215932 出願人：三菱レイヨン株式会社
炭酸水製造装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平3-160426 出願人：三菱重工業株式会社
特開昭60-153990

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