基板処理装置

発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：杉谷勉
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-362252
公開番号（公開出願番号）：特開2000-183010
出願日： 1998年12月21日
公開日（公表日）： 2000年06月30日
要約：

【要約】【課題】基板から振り切られた薬液をカップで回収して循環利用する際に、リンス液の混入による薬液の濃度変化を抑える。【解決手段】本発明の基板処理装置は基板Wの回転軸芯周りの外側に薬液回収用カップ15を、内側にリンス液回収用カップ16を備える。カップ15の開口15aは基板Wの回転軸芯に沿った上側に、カップ16の開口16aは下側にそれぞれ配置される。カップ15、16を隔てる中間カップ壁30は昇降自在に構成される。薬液処理のときは中間カップ壁30を下降させて薬液をカップ15で回収する。一方、リンス液処理のときは中間カップ壁30を上昇させて開口15aを閉塞するとともに、下側の開口16aを大きく開いてリンス液をカップ16で回収する。リンス液処理のときに閉塞された開口15aは基板Wよりも高い位置にあるので、薬液回収用カップ15にリンス液が侵入することがない。

請求項（抜粋）：

基板に薬液およびリンス液を順に供給して基板の処理を行う基板処理装置において、基板を保持して回転させる基板回転保持手段と、前記基板回転保持手段に保持された基板にリンス液を供給するリンス液供給手段と、前記基板回転保持手段に保持された基板に薬液を供給する薬液供給手段と、基板を保持している前記基板回転保持手段の外周側に配置され、基板の周縁から振り切られたリンス液を回収するための開口を有するリンス液回収用カップと、基板を保持している前記基板回転保持手段の外周側に配置され、基板の周縁から振り切られた薬液を回収するための開口を前記リンス液回収用カップの開口より上側に有する薬液回収用カップと、薬液処理時には基板周縁と前記薬液回収用カップの開口とが、リンス液処理時には基板周縁と前記リンス液回収用カップの開口とが、それぞれ対向するように、前記基板回転保持手段と前記両カップとを相対的に昇降させる昇降手段と、前記薬液回収用カップに回収された薬液を循環させて前記薬液供給手段に与える薬液循環手段とを備えたことを特徴とする基板処理装置。

IPC (3件)：

H01L 21/304 643 , H01L 21/304 648 , H01L 21/027

FI (3件)：

H01L 21/304 643 A , H01L 21/304 648 F , H01L 21/30 569 C

Fターム (3件)：

5F046LA04 , 5F046LA07 , 5F046LA14

引用特許：

出願人引用 (3件)

洗浄装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平8-231900 出願人：東京エレクトロン株式会社
現像装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平7-068353 出願人：株式会社東芝
洗浄方法及びその装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平8-148606 出願人：東京エレクトロン株式会社, 東京エレクトロン九州株式会社

審査官引用 (3件)

洗浄装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平8-231900 出願人：東京エレクトロン株式会社
現像装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平7-068353 出願人：株式会社東芝
洗浄方法及びその装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平8-148606 出願人：東京エレクトロン株式会社, 東京エレクトロン九州株式会社

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