特許
J-GLOBAL ID：200903041502070790
検査解析方法及び半導体装置
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
吉田 茂明 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-390098
公開番号（公開出願番号）：特開2002-190509
出願日： 2000年12月22日
公開日（公表日）： 2002年07月05日
要約：
【要約】【課題】 半導体製造装置の長期にわたる検査結果の解析を実現する。【解決手段】 モニターウェハWiは処理装置1iの処理を受け、その後に異物検査装置2において、検査レシピ3に基づいた検査を受ける。その検査結果たる測定結果28はデータマネージメントシステム4に集計され、解析される。通常はモニターウェハWiにはロット名やウェハ名は付記されないが、データマネージメントシステム4において測定結果28は処理装置1を相互に識別する識別名などが付加されて、保存データ31としてデータベース6に保存される。
請求項（抜粋）：
(a)複数の処理装置の各々によって個別に行われる処理工程毎に単数又は複数のモニターウェハを個別に供するステップと、(b)前記モニターウェハに検査を行って検査結果を得るステップと、(c)前記検査結果に、それが得られた前記検査の対象である前記モニターウェハに前記ステップ(a)で前記複数の処理工程を行った前記複数の処理装置を相互に識別する識別名を、付けて保存するステップとを備える、検査解析方法。
IPC (3件)：
H01L 21/66
, G01N 21/956
, H01L 21/02
H01L 21/66 Z
, G01N 21/956 A
, H01L 21/02 Z
2G051AA51
, 2G051AB01
, 2G051AB02
, 2G051EA08
, 2G051EA14
, 2G051EB01
, 2G051EC01
, 4M106AA01
, 4M106CA41
, 4M106CA48
, 4M106DH01
, 4M106DJ20
, 4M106DJ21
, 4M106DJ40
