プラズマエッチング装置

発明者：
出願人/特許権者： ,
代理人 (1件)：大西健治
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-225686
公開番号（公開出願番号）：特開2002-043276
出願日： 2000年07月26日
公開日（公表日）： 2002年02月08日
要約：

【要約】【課題】プラズマエッチング装置内のガス導入板のガス穴がある大きさ以上になると、ガス穴を介して、プラズマがエッチング処理室からガス導入板の裏側(クーリングプレート側)に回り込むという課題があった。【解決手段】上部電極が、ガスを供給する複数のガス供給孔を具えたクーリングプレートと、ガスを半導体ウエハーに均一に導入するガス穴を具えたガス導入板と、ガス導入板をクーリングプレートに固定する治具と、プラズマを検知するセンサーから構成されるようにしたため、ガス導入板のガス穴が消耗によって大きくなり、プラズマの回り込みが起こったとき、プラズマを検知するセンサーが働き、その時点でエッチング装置を停止させるようにした。

請求項（抜粋）：