特許

J-GLOBAL ID：200903041601020983

タンタルバリア除去溶液

発明者： ビアン,チンル
出願人/特許権者： ローム アンド ハース エレクトロニック マテリアルズ シーエムピー ホウルディングス インコーポレイテッド
代理人 (3件)： 津国 肇 ,  篠田 文雄 ,  束田 幸四郎
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-581246
公開番号（公開出願番号）：特表2005-522031
出願日： 2003年03月25日
公開日（公表日）： 2005年07月21日
要約：

ケミカルメカニカルプラナリゼーション溶液は、タンタルバリア材料を除去するために有用である。溶液は、酸化剤を0〜25重量%、非鉄金属のためのインヒビターを0〜15重量%、非鉄金属のための錯化剤を0〜20重量%、ホルムアミジン、ホルムアミジン塩、ホルムアミジン誘導体、グアニジン誘導体、グアニジン塩、およびこれらの混合物よりなる群から選ばれるタンタル除去剤を0.01〜12重量%、砥粒を0〜5重量%、ポリマー粒子およびポリマーコートされた被覆粒子よりなる群から選ばれる粒子を全部で0〜15重量%、および残余の水を含む。溶液は、ウェーハに対する垂直方向の微細多孔性ポリウレタン研磨パッド圧力が20.7kPa未満で測定したとき、少なくとも3:1の窒化タンタル:TEOS選択比を有する。

請求項（抜粋）：

タンタルバリア材料を除去するために有用なケミカルメカニカルプラナリゼーション溶液であって、酸化剤を0〜25重量%、非鉄金属のためのインヒビターを0〜15重量%、非鉄金属のための錯化剤を0〜20重量%、ホルムアミジン、ホルムアミジン塩、ホルムアミジン誘導体、グアニジン誘導体、グアニジン塩、およびこれらの混合物よりなる群から選ばれるタンタル除去剤を0.01〜12重量%、砥粒を0〜5重量%、ポリマー粒子およびポリマーコートされた被覆粒子よりなる群から選ばれる粒子を全部で0〜15重量%、および残余の水を含み、かつ、ウェーハに対する垂直方向の微細多孔性ポリウレタン研磨パッド圧力が20.7kPa未満で測定したとき、少なくとも3:1の窒化タンタル:TEOS選択比を有する溶液。

IPC (3件)：

H01L21/304 ,  B24B37/00 ,  H01L21/306

FI (4件)：

H01L21/304 622D ,  H01L21/304 622X ,  B24B37/00 H ,  H01L21/306 M

Fターム (8件)：

3C058AA07 ,  3C058AA09 ,  3C058CB01 ,  3C058DA12 ,  3C058DA17 ,  5F043AA26 ,  5F043BB18 ,  5F043DD16

引用特許：

審査官引用 (2件)

• 研磨用組成物
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2001-004842   出願人：株式会社フジミインコーポレーテッド, フジミアメリカインコーポレーテッド
• 化学機械的研磨組成物
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2000-208683   出願人：エターナルケミカルシーオー.,エルティーディー.