特許

J-GLOBAL ID：200903041618397690

レーザ描画装置及びレーザ描画方法

発明者： 長坂 公夫 ,  加瀬谷 浩康
出願人/特許権者： セイコーエプソン株式会社
代理人 (1件)： 鈴木 喜三郎 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-313865
公開番号（公開出願番号）：特開2001-133987
出願日： 1999年11月04日
公開日（公表日）： 2001年05月18日
要約：

【要約】【課題】 従来のXYテーブル式のレーザ描画装置における、深さ方向に微細で高精度なパターンを加工する場合の描画時間を短縮する。【解決手段】 ターンテーブルに感光材が塗布された原盤を載せて回転させながら、レーザスポットを径方向に移動させることより高速の描画をおこなう。また描画パターンを構成する各ピクセルに対して露光量を変化させ、またトラックピッチをレーザスポット半径と同等にすることにより任意の深さに高精度に加工することができる。

請求項（抜粋）：

被処理部材が載置され該部材を回転させるためのターンテーブルと、直線的なスライダと、光源となるレーザと、前記スライダに搭載され前記基板にレーザ光を集光しレーザスポットを形成するための光学系と、前記レーザスポットの光強度を変化させるための光変調器を含み、前記ターンテーブルにより前記被処理部材を回転させ、且つ前記スライダに搭載された光学系を移動させながら、前記被処理部材上に所定のパターンでレーザ描画を行うレーザ描画装置。

IPC (6件)：

G03F 7/20 505 ,  B23K 26/06 ,  B23K 26/08 ,  G03H 1/08 ,  H01L 21/027 ,  B23K101:36

FI (7件)：

G03F 7/20 505 ,  B23K 26/06 E ,  B23K 26/08 F ,  G03H 1/08 ,  B23K101:36 ,  H01L 21/30 502 P ,  H01L 21/30 529

Fターム (28件)：

2H097AA03 ,  2H097AB06 ,  2H097BB01 ,  2H097CA05 ,  2H097CA17 ,  2H097LA10 ,  2H097LA15 ,  2H097LA17 ,  2H097LA20 ,  2K008BB05 ,  2K008BB08 ,  2K008FF12 ,  2K008FF13 ,  2K008FF14 ,  2K008FF27 ,  2K008HH06 ,  2K008HH26 ,  4E068CB05 ,  4E068CD05 ,  4E068CD08 ,  4E068CE02 ,  4E068CE04 ,  4E068DA09 ,  5F046BA07 ,  5F046CA03 ,  5F046CC01 ,  5F046CC06 ,  5F046CC15

引用特許：

審査官引用 (2件)

• フォトレジストの露光方法及び装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平7-075365   出願人：ソニー株式会社
• 光量調整フィルタとその製造方法及び装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平8-256213   出願人：松下電器産業株式会社