特許

J-GLOBAL ID：200903041627964092

新規スルホニルジアゾメタン化合物、光酸発生剤、並びにそれを用いたレジスト材料及びパターン形成方法

発明者： 小林 克浩 ,  大澤 洋一 ,  長谷川 幸士 ,  吉原 隆夫 ,  前田 和規 ,  藤井 俊彦
出願人/特許権者： 信越化学工業株式会社
代理人 (3件)： 小島 隆司 ,  重松 沙織 ,  小林 克成
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-118155
公開番号（公開出願番号）：特開2004-026809
出願日： 2003年04月23日
公開日（公表日）： 2004年01月29日
要約：

【解決手段】式(1)のスルホニルジアゾメタン化合物。【化1】(R1は水素原子、炭素数1〜4の直鎖状、分岐状又は環状のアルキル基又はアルコキシ基、GはSO2又はCO、R2は炭素数1〜10の直鎖状、分岐状又は環状のアルキル基又は炭素数6〜14のアリール基、pは1又は2、qは0又は1、p+q=2を満足する。mは2〜11の整数、nは0〜3の整数、kは0〜7の整数である。)【効果】本発明のスルホニルジアゾメタンを用いた化学増幅型レジスト材料は、解像性、焦点余裕度に優れ、PEDが長時間にわたる場合にも線幅変動、形状劣化が少なく、塗布後、現像後、剥離後の異物が少なく、現像後のパターンプロファイル形状に優れ、微細加工に適した高解像性をする。【選択図】 なし

請求項（抜粋）：

下記一般式(1)で示されるスルホニルジアゾメタン化合物。

IPC (5件)：

C07C317/28 ,  G03F7/004 ,  G03F7/039 ,  G03F7/075 ,  H01L21/027

FI (5件)：

C07C317/28 ,  G03F7/004 503A ,  G03F7/039 601 ,  G03F7/075 511 ,  H01L21/30 502R

Fターム (23件)：

2H025AA01 ,  2H025AA02 ,  2H025AA04 ,  2H025AA09 ,  2H025AB16 ,  2H025AC04 ,  2H025AC08 ,  2H025AD03 ,  2H025BE00 ,  2H025BE10 ,  2H025BG00 ,  2H025CB08 ,  2H025CB17 ,  2H025CB41 ,  4H006AA01 ,  4H006AA03 ,  4H006AB80 ,  4H006AB92 ,  4H006TA02 ,  4H006TB74 ,  4H006TB79 ,  4H006TC09 ,  4H006TN90

引用特許：

審査官引用 (3件)

• ポジ型感光性組成物
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2001-083017   出願人：富士写真フイルム株式会社
• ポジ型感光性組成物
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2001-357766   出願人：富士写真フイルム株式会社
• ポジ型感光性組成物
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2002-065444   出願人：富士写真フイルム株式会社