特許
J-GLOBAL ID：200903041639034120
電子ビ-ム描画装置
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
小川 勝男
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-082267
公開番号（公開出願番号）：特開平8-287862
出願日： 1995年04月07日
公開日（公表日）： 1996年11月01日
要約：
【要約】 (修正有)【目的】 高精度でコンパクトな高さ検出器、及びこの高さ検出器により高精度化を図ることができる電子ビーム描画装置を提供する。【構成】 光源から出た光をスリット53に照射し、スリットの像を試料に斜め方向からレンズ54により結像し、反射光をレンズ55により受光素子面上に結像して試料面の高さを検出する高さ検出装置において、試料面9に近いレンズ54とレンズ55の外形を通常の球面凸レンズのような円形でないもので構成した。1つの例としてレンズの光軸方向に平行な2つの平面をもつレンズで構成した。【効果】 通常の球形凸レンズと比較してレンズ開口の面積が増加し、試料面への入射光量の増加が図れ、高さ検出信号のS/Nが改善されて、電子ビーム描画装置の精度向上が図れる。
請求項（抜粋）：
電子ビーム源と、該電子ビーム源からの電子ビームを基板に照射するための電子光学系と、白色光源と、該光源から所定の面積の光ビームに取り出すためのスリットと、上記光ビームを上記基板へ照射するため、上記電子光学系に設けられた光学手段とから成ることを特徴とする電子ビ-ム描画装置。
IPC (6件)：
H01J 37/305
, G03F 7/20 504
, G03F 7/20 521
, G21K 5/04
, H01J 37/21
, H01L 21/027
H01J 37/305 A
, G03F 7/20 504
, G03F 7/20 521
, G21K 5/04 M
, H01J 37/21 Z
, H01L 21/30 541 Z
