特許
J-GLOBAL ID：200903041675495126

欠陥検査装置、そのプログラムおよび記録媒体、欠陥検査システムならびに欠陥検査方法

発明者：
大森 清薫

大森 清薫 について


出願人/特許権者：
シャープ株式会社

シャープ株式会社 について


代理人 (1件)： 特許業務法人原謙三国際特許事務所
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2006-143320
公開番号（公開出願番号）：特開2007-315811
出願日： 2006年05月23日
公開日（公表日）： 2007年12月06日
要約：
【課題】修正が必要なフォトマスクの欠陥を、正確かつ容易に検出することを可能にする。【解決手段】画像センサ7から、マスクパターンの光透過領域および遮光領域を含む所定領域の光学画像データを取得するデータ取得部11と、取得した光学画像データから、マスクパターンの形状および欠陥の情報とともに、上記所定領域内での欠陥の数である欠陥の密度を検出する情報検出部12と、検出したマスクパターンの形状および欠陥の情報と欠陥の密度の情報とに基づいて、情報検出部12で検出したマスクパターンの欠陥に対する修正の要否の判定を行う演算部13とを備えている。【選択図】図1
請求項（抜粋）：
光透過領域および遮光領域を有するフォトマスクの、マスクパターンの形状および欠陥の情報をもとにマスクパターンの欠陥に対する修正の要否を判定する欠陥検査装置であって、 上記マスクパターンの光学像を検出する画像センサから、上記マスクパターンの上記光透過領域および遮光領域を含む所定領域の上記光学像のデータである光学画像データを取得する取得手段と、 上記取得手段で取得した上記光学画像データから、上記マスクパターンの形状および欠陥の情報とともに、上記所定領域内での欠陥の数である欠陥の密度を検出する情報検出手段と、 上記情報検出手段で検出した上記マスクパターンの形状および欠陥の情報と上記欠陥の密度の情報とに基づいて、上記情報検出手段で検出したマスクパターンの欠陥に対する修正の要否の判定を行う演算手段とを備えていることを特徴とする欠陥検査装置。
IPC (3件)：
G01N 21/956 ,  G03F 1/08 ,  H01L 21/027
FI (3件)：
G01N21/956 A ,  G03F1/08 S ,  H01L21/30 502P
Fターム (18件)：
2G051AA56 ,  2G051AB02 ,  2G051AC02 ,  2G051CA04 ,  2G051CB02 ,  2G051DA20 ,  2G051EA11 ,  2G051EA14 ,  2G051EA16 ,  2G051EB01 ,  2G051EC01 ,  2G051EC02 ,  2H095BA02 ,  2H095BD02 ,  2H095BD04 ,  2H095BD05 ,  2H095BD13 ,  2H095BD16
引用特許：
出願人引用 (2件)

前のページに戻る

TOP

BOTTOM