特許

J-GLOBAL ID：200903041698596574

超紫外光源とともに利用するためのノズル

発明者： トーマス・ジェイ・フィッツジェラルド ,  リチャード・エイチ・モイアー
出願人/特許権者： ティーアールダブリュー・インコーポレーテッド
代理人 (1件)： 社本 一夫 (外5名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-018449
公開番号（公開出願番号）：特開2001-313198
出願日： 2001年01月26日
公開日（公表日）： 2001年11月09日
要約：

【要約】【課題】 超紫外光源とともに利用し、より大きな気体クラスタの分布を生じ、超紫外光の効率を増加させるノズルを提供する。【解決手段】 本発明は多くのクラスタを形成するために気体を膨張するための第1の手段60、クラスタの数を減少するためにいくつかのクラスタを蒸発させるために気体を圧縮する第2の手段62、数が減少されたクラスタを大きくするために気体を膨張する第3の手段70を含む。第1の手段は第1のスロート50を含み、第2の手段は第1のスロートより大きな直径を有する第2のスロート54を含む。

請求項（抜粋）：

多くのクラスタを形成するために気体を膨張するための第1の手段と、前記クラスタの数を減少させるために気体を圧縮するための第2の手段と、前記数が減少されたクラスタの大きさを大きくするために、前記気体を膨張する第3の手段と、を含むことを特徴とする、超紫外光(EUV)源に気体流を供給するための気体ジェット・ノズル。

IPC (5件)：

H05G 2/00 ,  G03F 7/20 503 ,  G21K 5/02 ,  H01L 21/027 ,  H05H 1/24

FI (5件)：

G03F 7/20 503 ,  G21K 5/02 X ,  H05H 1/24 ,  H05G 1/00 K ,  H01L 21/30 531 S

引用特許：

審査官引用 (2件)

• 希ガスエキシマを生成する方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平7-070429   出願人：ウシオ電機株式会社
• X線発生装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平10-266130   出願人：株式会社ニコン