特許

J-GLOBAL ID：200903041710788247

レジストパターンのベーク装置及びレジストパターンの形成方法

発明者： 小林 祥三 ,  古川 貴光 ,  田中 圭介 ,  下山 浩平 ,  渡辺 明 ,  西室 直 ,  武藤 耕喜 ,  柳澤 あづさ ,  大島 勝雄
出願人/特許権者： 沖電気工業株式会社
代理人 (1件)： 前田 実 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-290970
公開番号（公開出願番号）：特開2003-100596
出願日： 2001年09月25日
公開日（公表日）： 2003年04月04日
要約：

【要約】【課題】 ベーク処理におけるレジストパターンの寸法変化量(パターン開口部の縮み量)を均一にすることができるレジストパターンのベーク装置及びレジストパターンの形成方法を提供する。【解決手段】 ベーク装置1は、レジストパターンを備えたウェハ10を収容するベーク炉11と、ウェハ10を加熱してレジストパターンに熱フローを生じさせるホットプレート21と、供給されたパージガスをベーク炉11内に導入するための導入路16と、ベーク炉11内に導入されたパージガスを排出するための排出路19とを有する。ベーク装置1は、ベーク炉11内におけるパージガスの温度分布がウェハ10の径方向外側で高く径方向内側で低くなるようにパージガスの温度及び流路を制御する。

請求項（抜粋）：

レジストパターンを備えたウェハを収容するベーク炉と、前記ウェハを加熱して前記レジストパターンに熱フローを生じさせるホットプレートと、前記ベーク炉に備えられ、供給手段から供給されたパージガスを前記ベーク炉内に導入するための導入路と、前記ベーク炉に備えられ、前記ベーク炉内に導入されたパージガスを排出するための排出路とを有するレジストパターンのベーク装置において、前記ベーク炉内における前記パージガスの温度分布が前記ウェハの径方向外側で高く径方向内側で低くなるように前記パージガスの温度及び流路を制御するパージガス制御手段を有することを特徴とするレジストパターンのベーク装置。

IPC (3件)：

H01L 21/027 ,  G03F 7/30 501 ,  H05B 3/00 310

FI (3件)：

G03F 7/30 501 ,  H05B 3/00 310 E ,  H01L 21/30 567

Fターム (9件)：

2H096AA25 ,  2H096HA05 ,  3K058AA41 ,  3K058BA00 ,  3K058BA19 ,  3K058CA12 ,  3K058CA22 ,  5F046KA05 ,  5F046KA10

引用特許：

審査官引用 (3件)

• 熱処理装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平10-004222   出願人：東京エレクトロン株式会社
• 基板冷却装置および基板冷却方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平10-126393   出願人：大日本スクリーン製造株式会社
• 加熱処理方法及び加熱処理装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平11-200280   出願人：東京エレクトロン株式会社