特許
J-GLOBAL ID：200903041836091594
レジスト現像処理装置
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
金山 聡
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-017694
公開番号（公開出願番号）：特開平11-204025
出願日： 1998年01月14日
公開日（公表日）： 1999年07月30日
要約：
【要約】【課題】 プラズマディスプレイパネル(PDP)用の基板の、障壁部、電極部等を形成するためのペースト膜上で、レジストのパターンニングを行う現像処理装置で、ペースト膜中に滲み込んだ、現像液やリンス液の溶剤分の除去を効率的に行うことができ、且つ、品質的にも十分対応できる装置を提供する。【解決手段】 プラズマディスプレイパネル(PDP)用の基板の、障壁部、電極部等を形成するためのペースト膜上で、レジストのパターンニングを行う現像処理装置であって、エアーナイフ等により現像液やリンス液の液切りを行う液切り工程部の後に、ペースト膜中に滲み込んだ、現像液やリンス液の溶剤分の除去を行う加熱炉を備えたもので、該加熱炉が、パネル状の赤外線放射部を有し、赤外線により加熱を行うものである。
請求項（抜粋）：
プラズマディスプレイパネル用の基板の、障壁部、電極部等を形成するためのペースト膜上で、レジストのパターンニングを行う現像処理装置であって、エアーナイフ等により現像液やリンス液の液切りを行う液切り工程部の後に、ペースト膜中に滲み込んだ、現像液やリンス液の溶剤分の除去を行う加熱炉を備えたもので、該加熱炉が、パネル状の赤外線放射部を有し、赤外線により加熱を行うものであることを特徴とするレジスト現像処理装置。
IPC (5件)：
H01J 9/02
, G03F 7/004 512
, G03F 7/30 501
, H01J 17/49
, H01L 21/027
H01J 9/02 F
, G03F 7/004 512
, G03F 7/30 501
, H01J 17/49 Z
, H01L 21/30 569 C
