特許
J-GLOBAL ID：200903041897457044
有機EL素子とその製造方法、電気光学装置、及び電子機器
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (3件)：
渡邊 隆
, 志賀 正武
, 実広 信哉
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-209688
公開番号（公開出願番号）：特開2004-055279
出願日： 2002年07月18日
公開日（公表日）： 2004年02月19日
要約：
【課題】発光層あるいは正孔注入層の膜厚を均一にし、これにより輝度むら等を防止して表示性能を高めた、有機EL素子とその製造方法、電気光学装置、及び電子機器を提供する。【解決手段】電極間に少なくとも正孔注入層140Aと発光層とを備えた発光部を有してなる有機EL素子の製造方法である。電極の一方の上に、正孔注入材料あるいは発光材料を溶媒に溶解し、あるいは分散媒に分散してなる正孔注入層形成材料114Aあるいは発光層形成材料を配する工程と、正孔注入層形成材料114Aあるいは発光層形成材料を配した後、正孔注入層形成材料114A中あるいは発光層形成材料中の溶媒あるいは分散媒が残っている状態のもとで、正孔注入層形成材料114Aあるいは発光層形成材料を凍結乾燥処理して正孔注入層140Aあるいは発光層を形成する工程と、を備えている。【選択図】 図4
請求項（抜粋）：
電極間に少なくとも正孔注入層と発光層とを備えた発光部を有してなる有機EL素子の製造方法において、
正孔注入材料あるいは発光材料を溶媒に溶解しあるいは分散媒に分散してなる正孔注入層形成材料あるいは発光層形成材料を、前記電極の一方の上に配する工程と、
正孔注入層形成材料あるいは発光層形成材料を配した後、該正孔注入層形成材料中あるいは発光層形成材料中の溶媒あるいは分散媒が残っている状態のもとで、該正孔注入層形成材料あるいは発光層形成材料を凍結乾燥処理して正孔注入層あるいは発光層を形成する工程と、
を備えてなることを特徴とする有機EL素子の製造方法。
IPC (2件)：
FI (2件)：
Fターム (4件)：
3K007AB02
, 3K007AB08
, 3K007DB03
, 3K007FA01
