特許

J-GLOBAL ID：200903041978587210

基板洗浄装置および方法

発明者： 大谷 正美 ,  池田 昌秀 ,  藤田 充宏 ,  西村 讓一
出願人/特許権者： 大日本スクリーン製造株式会社
代理人 (1件)： 吉田 茂明 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-221260
公開番号（公開出願番号）：特開平10-004072
出願日： 1996年08月22日
公開日（公表日）： 1998年01月06日
要約：

【要約】【課題】 処理時間が短く、処理効率の高い基板洗浄装置および方法を提供する。【解決手段】 洗浄ブラシ20は、回動軸40aを中心に位置A1から位置B1の範囲で回動する。一方、超音波洗浄ノズル30は、回動軸50aを中心に位置A2から位置B2の範囲で回動する。洗浄処理が実行されるときには、洗浄ブラシ20および超音波洗浄ノズル30が、予めオペレータによって作成された処理パターンに従って駆動される。このときに、洗浄ブラシ20が位置O1と位置B1の間を移動するのと、超音波洗浄ノズル30が位置O2と位置B2の間を移動するのとが同時に行われないように処理パターンを作成する。また、この条件を満足しさえすれば、オペレータが望む任意の処理パターンを作成することができる。そして、当該処理パターンに従って、洗浄処理を実行すれば、洗浄ブラシ20および超音波洗浄ノズル30を同時に使用して基板Wを洗浄できる。

請求項（抜粋）：

基板を回転させつつ洗浄処理を行う基板洗浄装置において、(a)前記基板の回転中心を含む被洗浄面を洗浄する複数の洗浄手段と、(b)前記複数の洗浄手段のそれぞれを独立に駆動する駆動手段と、(c)前記複数の洗浄手段が少なくとも所定時間は前記基板を同時に洗浄するように前記駆動手段を制御する駆動制御手段と、を備えることを特徴とする基板洗浄装置。

IPC (4件)：

H01L 21/304 341 ,  H01L 21/304 ,  B08B 1/04 ,  B08B 3/12

FI (4件)：

H01L 21/304 341 B ,  H01L 21/304 341 N ,  B08B 1/04 ,  B08B 3/12 C

引用特許：

審査官引用 (2件)

• ウエーハのブラシ洗浄装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平3-226360   出願人：信越半導体株式会社
• 基板処理装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平5-236091   出願人：大日本スクリーン製造株式会社