特許
J-GLOBAL ID:200903042011112480
偏光素子、偏光素子の製造方法、液晶装置及び電子機器
発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (2件):
西 和哉
, 志賀 正武
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2007-236596
公開番号(公開出願番号):特開2009-069382
出願日: 2007年09月12日
公開日(公表日): 2009年04月02日
要約:
【課題】ラビング時の耐性を有し且つ光学特性の低下を少なく抑えたワイヤーグリッド型の偏光素子、該偏光素子の製造方法、該偏光素子を用いた液晶装置及び該液晶装置を備えた電子機器を提供することを目的とする。【解決手段】基材12と、基材12上に所定の配列軸に沿って設けられた複数の金属細線14と、複数の金属細線14の各々を覆う複数の保護膜16と、を備え、保護膜16は、金属細線14の上端部及び両側壁部を覆い、各々の金属細線14の上端部に設けられた第2保護膜16bの配列軸方向の幅が、各々の金属細線14の配列軸方向の幅と各々の両側壁部における第1保護膜16aの配列軸方向の幅とを合わせた幅よりも広くなっており、隣接する金属細線14の相対する側壁部に設けられた第1保護膜16aは空隙部15を形成することを特徴とする。【選択図】図4
請求項(抜粋):
基材と、前記基材上に所定の配列軸に沿って設けられた複数の金属細線と、前記複数の金属細線の各々を覆う複数の保護膜と、を備え、
前記保護膜は、前記金属細線の上端部及び両側壁部を覆い、
各々の前記金属細線の上端部に設けられた前記保護膜の前記配列軸方向の幅が、各々の前記金属細線の前記配列軸方向の幅と各々の前記両側壁部における前記保護膜の前記配列軸方向の幅とを合わせた幅よりも広くなっており、
隣接する前記金属細線の相対する前記側壁部に設けられた前記保護膜は空隙部を形成することを特徴とする偏光素子。
IPC (2件):
FI (2件):
G02B5/30
, G02F1/1335 510
Fターム (16件):
2H049BA02
, 2H049BA45
, 2H049BB16
, 2H049BC08
, 2H049BC22
, 2H091FA08Y
, 2H091FB06
, 2H091FB08
, 2H091FC10
, 2H091FC26
, 2H091FC29
, 2H091GA06
, 2H091GA13
, 2H091GA16
, 2H091LA02
, 2H091LA11
引用特許:
出願人引用 (5件)
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審査官引用 (2件)
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