特許

J-GLOBAL ID：200903042046986423

薄膜の残留応力測定装置並びに薄膜の残留応力測定方法

発明者： 斎藤 啓介
出願人/特許権者： スペクトリス株式会社
代理人 (1件)： 浜田 治雄
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-120786
公開番号（公開出願番号）：特開2004-325267
出願日： 2003年04月24日
公開日（公表日）： 2004年11月18日
要約：

【課題】高温度雰囲気中でX線回折を活用し側傾法を用いて測定する薄膜の残留応力測定装置及び薄膜の残留応力測定方法を提供する。【解決手段】薄膜試料の回折X線を測定して格子面間隔と試料測定傾斜角から残留応力を算出する残留応力測定装置において、X線源と、X線源の光軸上に配置されX線源を収束する収束部と、前記薄膜試料に照射して回折されたX線波を所定の角度で検出するように移動可能に配置される検出部と、前記薄膜試料を搭載する搭載平面の法線方向を含む直交3軸それぞれを中心として回転可能に構成されてかつ前記薄膜試料を加熱するヒータを備えて前記X線源と前記検出部から所定の距離を設けて配置されるステージと、これらのX線源と回転軸とヒータを制御して検出部の検出した回折X線信号を測定する測定プログラムと、所定の強度の回折X線信号から格子面間隔を算出する格子面間隔算出プログラムと試料傾斜角度と格子面間隔から残留応力を算出する演算プログラムを含む中央演算部を備える。【選択図】 図1

請求項（抜粋）：

薄膜試料の回折X線を測定して格子面間隔と試料測定傾斜角から薄膜の残留応力を算出する残留応力測定装置において、X線源と、X線源の光軸上に配置されX線源を収束する収束部と、前記薄膜試料に照射して回折されたX線波を所定の角度で検出するように移動可能に配置される検出部と、前記薄膜試料を搭載する搭載平面の法線方向を含む直交3軸それぞれを中心として回転可能に構成されてかつ前記薄膜試料を加熱するヒータを備えて前記X線源と前記検出部から所定の距離を設けて配置されるステージと、これらのX線源と回転軸とヒータを制御して検出部の検出した回折X線信号を測定する測定プログラムと、所定の強度の回折X線信号から格子面間隔を算出する格子面間隔と試料傾斜角度とから残留応力を算出する演算プログラムを含む中央演算部を備える薄膜の残留応力測定装置。

IPC (3件)：

G01L1/00 ,  G01L1/25 ,  G01N23/20

FI (3件)：

G01L1/00 A ,  G01L1/25 ,  G01N23/20

Fターム (13件)：

2G001AA01 ,  2G001BA18 ,  2G001CA01 ,  2G001GA06 ,  2G001GA08 ,  2G001JA08 ,  2G001JA14 ,  2G001KA07 ,  2G001LA11 ,  2G001MA05 ,  2G001PA07 ,  2G001PA11 ,  2G001SA02

引用特許：

審査官引用 (4件)

• 特開平3-148027
  
• X線応力測定装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平4-024407   出願人：理学電機株式会社
• X線回折測定装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平7-226809   出願人：日本電子株式会社, 日本電子エンジニアリング株式会社
• 特開平3-148027