特許
J-GLOBAL ID：200903042067414330
透明導電膜形成剤、導電性基板および該基板の製造方法
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
三枝 英二 (外10名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-159938
公開番号（公開出願番号）：特開平11-007849
出願日： 1997年06月17日
公開日（公表日）： 1999年01月12日
要約：
【要約】【目的】パターニングライン頭頂部が基板に対して平行性の高い導電性基板を形成する方法および該導電性基板を提供することを目的とする。【構成】インジウム-スズ-ジケトン複合体からなる透明導電膜形成剤、インジウム-スズ酸化物を基板上にパターン形成してパターニングライン頭頂部が基板に対して平行である導電性基板、およびインジウム-スズ-ジケトン複合体膜を有する基板に紫外線を照射し、非照射部分の前記複合体を洗浄除去し、次いで焼成することを特徴とする、インジウム-スズ酸化物を基板上にパターン化した状態で形成した導電性基板の製造方法により、発光輝度、画像鮮明性およびコスト的に優れた導電性基板を提供することができる。
請求項（抜粋）：
インジウム-スズ-ジケトン複合体からなる透明導電膜形成剤。
IPC (4件)：
H01B 13/00 503
, C23C 18/14
, H01B 5/14
, C09K 3/16 102
H01B 13/00 503 D
, C23C 18/14
, H01B 5/14 A
, C09K 3/16 102 G
