感放射線性樹脂組成物

発明者： , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：福沢俊明
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-371311
公開番号（公開出願番号）：特開2003-173027
出願日： 2001年12月05日
公開日（公表日）： 2003年06月20日
要約：

【要約】【課題】解離性基含有ポリシロキサンを樹脂成分とし、特に解像度が優れた化学増幅型レジストとして好適な感放射線性樹脂組成物を提供する。【解決手段】 (A)酸解離性基含有ポリシロキサンおよび(B)放射線の照射により、トリフルオロメタンスルホン酸または下記式(I)で表される酸を発生する化合物を必須成分とする感放射線性酸発生剤を含有することを特徴とする感放射線性樹脂組成物。【化1】〔式(I)において、各Rf は相互に独立にフッ素原子またはトリフルオロメチル基を示し、Ra は水素原子、フッ素原子、炭素数1〜20の直鎖状もしくは分岐状のアルキル基、炭素数1〜20の直鎖状もしくは分岐状のフッ素化アルキル基、炭素数3〜20の環状の1価の炭化水素基または炭素数3〜20の環状の1価のフッ素化炭化水素基を示し、該環状の1価の炭化水素基および該環状の1価のフッ素化炭化水素基は置換されていてもよい。〕

請求項（抜粋）：

(A)酸解離性基含有ポリシロキサンおよび(B)放射線の照射により、トリフルオロメタンスルホン酸または下記式(I)で表される酸を発生する化合物を必須成分とする感放射線性酸発生剤を含有することを特徴とする感放射線性樹脂組成物。【化1】〔式(I)において、各Rf は相互に独立にフッ素原子またはトリフルオロメチル基を示し、Ra は水素原子、フッ素原子、炭素数1〜20の直鎖状もしくは分岐状のアルキル基、炭素数1〜20の直鎖状もしくは分岐状のフッ素化アルキル基、炭素数3〜20の環状の1価の炭化水素基または炭素数3〜20の環状の1価のフッ素化炭化水素基を示し、該環状の1価の炭化水素基および該環状の1価のフッ素化炭化水素基は置換されていてもよい。〕

IPC (5件)：

G03F 7/075 521 , C08G 77/14 , G03F 7/004 503 , G03F 7/039 601 , H01L 21/027

FI (5件)：

G03F 7/075 521 , C08G 77/14 , G03F 7/004 503 , G03F 7/039 601 , H01L 21/30 502 R

Fターム (20件)：

2H025AA02 , 2H025AB16 , 2H025AC04 , 2H025AC05 , 2H025AC06 , 2H025AD03 , 2H025BE00 , 2H025BE07 , 2H025BE10 , 2H025BG00 , 2H025CB33 , 2H025CB41 , 2H025FA17 , 4J035BA01 , 4J035BA04 , 4J035CA01N , 4J035CA072 , 4J035CA102 , 4J035FB01 , 4J035LB16

引用特許：

審査官引用 (2件)

ポジ型シリコン含有感光性組成物
公報種別：公開公報出願番号：特願2000-150173 出願人：富士写真フイルム株式会社
ポジ型フォトレジスト組成物
公報種別：公開公報出願番号：特願2000-028236 出願人：富士写真フイルム株式会社

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