ポジ型シリコン含有感光性組成物

発明者： ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：小栗昌平 (外4名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-150173
公開番号（公開出願番号）：特開2001-330957
出願日： 2000年05月22日
公開日（公表日）： 2001年11月30日
要約：

【要約】【課題】半導体デバイスの製造において、ArFやKrFを光源とする遠紫外線領域の露光に対応し得、高い解像力を有し、更に、特に0.18μm以下の微細パターンにおける疎密依存性、および露光マージンに優れたレジストパターンを与えるポジ型シリコン含有感光性組成物を提供すること。【解決手段】 (a)酸により分解しうる基を有し、かつアルカリ現像液中での溶解度が酸の作用により増大する性質のあるポリシロキサン又はポリシルセスキオキサン、(b)活性光線もしくは放射線の照射によりカルボン酸を発生する化合物、(d)溶媒とを含有することを特徴とするポジ型シリコン含有感光性組成物。

請求項（抜粋）：

(a)酸により分解しうる基を有し、かつアルカリ現像液中での溶解度が酸の作用により増大する性質のあるポリシロキサン又はポリシルセスキオキサン、(b)活性光線もしくは放射線の照射によりカルボン酸を発生する化合物(d)溶媒とを含有することを特徴とするポジ型シリコン含有感光性組成物。

IPC (9件)：

G03F 7/039 601 , C08K 5/03 , C08K 5/36 , C08K 5/41 , C08L 83/06 , C08L 83/08 , G03F 7/004 501 , G03F 7/075 511 , H01L 21/027

FI (9件)：

G03F 7/039 601 , C08K 5/03 , C08K 5/36 , C08K 5/41 , C08L 83/06 , C08L 83/08 , G03F 7/004 501 , G03F 7/075 511 , H01L 21/30 502 R

Fターム (23件)：

2H025AA00 , 2H025AA01 , 2H025AA02 , 2H025AA03 , 2H025AB16 , 2H025AC04 , 2H025AC08 , 2H025AD03 , 2H025BE00 , 2H025BG00 , 2H025CC03 , 2H025CC20 , 2H025FA03 , 2H025FA12 , 2H025FA17 , 4J002CP051 , 4J002EB116 , 4J002EB117 , 4J002EV217 , 4J002EV296 , 4J002EV297 , 4J002EV307 , 4J002GP03

引用特許：

審査官引用 (7件)

有機けい素重合体およびこれを用いる半導体装置の製造方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平3-212111 出願人：富士通株式会社
感放射線性樹脂組成物
公報種別：公開公報出願番号：特願平10-229160 出願人：ジェイエスアール株式会社
酸感応ポリマおよびホトレジスト構造の作成方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平5-210073 出願人：インターナショナル・ビジネス・マシーンズ・コーポレイション

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