特許
J-GLOBAL ID：200903042096879059
エレクトレットコンデンサー及びその製造方法
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (3件)：
岩橋 文雄
, 坂口 智康
, 内藤 浩樹
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-417796
公開番号（公開出願番号）：特開2005-183437
出願日： 2003年12月16日
公開日（公表日）： 2005年07月07日
要約：
【課題】耐湿性に優れるエレクトレットコンデンサーを提供する。【解決手段】シリコン基板6上に形成したエレクトレットシリコン酸化膜7を、絶縁膜9と金属膜8にて挟み込み、シリコン酸化膜7を露出させない構造とする。このとき、金属膜8をスパッタで形成する直前に、スパッタ装置の真空チャンバー内でシリコン酸化膜をプラズマを用いてエレクトレット化を行う。これにより、エレクトレットの吸湿を抑制し、信頼性の高いエレクトレットコンデンサーを提供することができる。【選択図】図5
請求項（抜粋）：
エレクトレット化された領域を有するシリコン酸化膜を備え、
少なくとも前記シリコン酸化膜のエレクトレット化された前記領域は絶縁膜もしくは電極膜及び絶縁膜により覆われていることを特徴とするエレクトレット。
IPC (3件)：
H01G7/02
, H04R19/01
, H04R19/04
H01G7/02 C
, H01G7/02 E
, H04R19/01
, H04R19/04
5D021CC08
, 5D021CC12
, 5D021CC19
, 5D021CC20
出願人引用 (5件)
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審査官引用 (7件)
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