特許
J-GLOBAL ID：200903042122410706
プラズマディスプレイパネルの製造方法および転写フィルム
発明者：
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出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-098444
公開番号（公開出願番号）：特開平11-283495
出願日： 1998年03月26日
公開日（公表日）： 1999年10月15日
要約：
【要約】【課題】 プラズマディスプレイパネルの各表示セルを構成する電極の形成において、高精細パターンの形成が可能となり、また従来の方法に比べて実質的に作業性を向上させることができるプラズマディスプレイパネルの製造方法を提供する。【解決手段】 支持フィルム上に形成された反射防止膜形成用ペースト層を基板上に転写し、別の支持フィルム上に形成された導電性ペースト層を反射防止膜形成用ペースト層上に転写し、導電性ペースト層上にレジスト膜を形成し、当該レジスト膜を露光処理して、レジストパターンの潜像を形成し、当該レジスト膜を現像処理してレジストパターンを顕在化させ、導電性ペースト層および反射防止膜形成用ペースト層をエッチング処理してレジストパターンに対応する導電性ペースト層および反射防止膜形成用ペースト層のパターンを形成し、当該パターンを焼成処理する工程を含む方法により、電極を形成することを特徴とするプラズマディスプレイパネルの製造方法を提供する。
請求項（抜粋）：
支持フィルム上に形成された反射防止膜形成用ペースト層を基板上に転写し、別の支持フィルム上に形成された導電性ペースト層を反射防止膜形成用ペースト層上に転写し、導電性ペースト層上にレジスト膜を形成し、当該レジスト膜を露光処理して、レジストパターンの潜像を形成し、当該レジスト膜を現像処理してレジストパターンを顕在化させ、導電性ペースト層および反射防止膜形成用ペースト層をエッチング処理してレジストパターンに対応する導電性ペースト層および反射防止膜形成用ペースト層のパターンを形成し、当該パターンを焼成処理する工程を含む方法により、電極を形成することを特徴とするプラズマディスプレイパネルの製造方法。
IPC (4件)：
H01J 9/02
, B05D 1/32
, B05D 5/06
, H01J 17/49
H01J 9/02 F
, B05D 1/32 Z
, B05D 5/06 G
, H01J 17/49 Z
