精密照射用シャッタ機構と制御方法

発明者： ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：井上義雄 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-200851
公開番号（公開出願番号）：特開2001-028346
出願日： 1999年07月14日
公開日（公表日）： 2001年01月30日
要約：

【要約】【課題】安定したレーザ光をワークに照射して均質な処理を可能にするレーザアニーリング装置を提供すること。【解決手段】レーザ光源10からのレーザ光ALをシャッタ装置40で適宜遮断することにより、レーザ発振初期においてエネルギー変動の大きな期間中、ワークW表面にレーザ光ALが入射しないようにする。これにより、安定したエネルギーのレーザ光ALを必要なタイミングでワークW表面に供給することができる。また、ワークW上の各照射領域を照射光学系20に対して位置決めする際にはプロセスステージ装置33をステッピング動作させるが、ステッピング動作中はレーザ光ALを照射しないで、通常はレーザ光源10の発振を止める。これにより、レーザ光源10の不要な動作を少なくして電力損失を防止するとともに装置の劣化を抑制する。

請求項（抜粋）：

所定波長のレーザ光を発生するレーザ光源と、前記レーザ光源からのレーザ光をプロセスステージに載置したワーク上に照射する照射光学系と、前記レーザ光源と前記照射光学系との間の光路上に配置されてレーザ光を遮断するシャッタ装置と、前記シャッタ装置を動作させるシャッタ制御装置とを備えるレーザ加工装置。

引用特許：

審査官引用 (12件)

特開昭63-241925
パルスレーザ光照射装置及び照射方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平9-118136 出願人：日本電気株式会社
パルスレーザアニール装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平3-251984 出願人：ソニー株式会社

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